1) WBEPM
最弱受约束电子势模型
1.
Under the weakest bound electron potential model(WBEPM),via identifying the weakest bound electron,the Martin formula about the quantum defect of single valence atoms is extended to many-valence atoms(or ions) system.
在最弱受约束电子势模型的理论框架下,通过对最弱受约束电子的识别,将Martin关于单价原子量子亏损公式推广到多价原子(离子)系统,从而计算了FeⅩⅥ离子的2p6np2P°1/2,3/2(n≥3)和2p6nd2D3/2,5/2(n≥3)系列Rydberg态的能级,理论计算值与实验值符合很好,两者的相对误差不超过3。
2.
Using the weakest bound electron potential model(WBEPM) theory,via identifying the weakest bound electron,Martin formula about the quantum defect of single valence atoms is extended to many-valence atoms(or ions) system.
利用最弱受约束电子势模型的理论,通过对最弱受约束电子的识别,将Martin关于单价原子量子亏损公式推广到多价原子(离子)系统,从而计算了Co ⅩⅦ离子的2p6np2Po1/2,3/2(n=3~20)和2p6nd2D3/2,5/2(n=3~20)系列Rydberg态的能级,理论计算值与实验值吻合较好,两者的相对误差不超过4。
3.
Under the WBEPM,by means of the Martin s formula,the Rydberg energy levels of 6pnd1/2_3(n≥6)and 6png1/2_3(n≥5)series and quantum defects of PbⅠatoms are calculated.
在最弱受约束电子势模型理论框架下,利用Martin公式研究了PbⅠ原子在JJ耦合下的Rydberg系列能级,计算了6pnd1/2[5/2]3(n≥6)和6png1/2[5/2]3(n≥5)两个光谱系列的能级和量子亏损值,结果与实验值符合较好,最大相对误差小于0。
2) weakest bound electron potential model(WBEPM)
最弱受约束电子势模型
1.
The Rydberg energy levels and quantum defects of multi-valence atoms were calculated based on the weakest bound electron potential model(WBEPM).
用最弱受约束电子势模型(w eakest bound e lectronpoten tia lm ode l,W BEPM)理论计算多价原子的R ydberg态能级和相应的量子数亏损。
3) constraint model
约束模型
1.
The description is based on constraints and called constraint model, which is defined by the features that satisfy a definite constraint set.
模型描述是基于约束的，故称为约束模型，并定义为满足一定约束关系集的特征集合。
2.
Aiming at the sequencing workingsteps on machining center,by taking the assistant machining time as the optimization object,a constraint model is established based on polychromatic sets theory,where the contour matrix is used to formalize the conditioned restrictions visually and comprehensively.
针对加工中心上的工步排序问题,以辅助加工时间最短为优化目标,基于多色集合理论建立了问题的约束模型。
3.
As an indispensable part in any CAD systems, technology concerning constraint modeling is highly emphasized, and many useful solutions have been raised which encourage the reform and application of CAD systems.
为了能够正确地维护设计者的设计意图和满足用户的需求,本文在原系统的基础之上,提出了一种语义特征约束模型。
4) constrained model
约束模型
1.
This paper presents a method to establish a 2-D geometrically constrained model, and to realize the modification of topologic relation of geometric models.
本文提出了二维几何约束模型的建立及几何模型拓扑关系可迁移性的实现，并具有不依赖于作图过程的可变性修改的特点。
5) model constraint
模型约束
1.
An algorithm based on fractal codes and model constraint is proposed in this paper.
本文提出一种基于分形码和模型约束的图像放大算法,分形码能够包含图像的空间信息和图像本身的自相似信息,模型约束能够有效的限制放大引入的误差。
6) tight-binding MD
紧束缚原子势模型
补充资料：给电子-受电子发色体
分子式：
CAS号：
性质：又称供电子-吸电子发色体。给电子-受电子发色体至少含有一个直接和共轭体系相联的给电子基，通过共轭桥与受电子基联接，形成发色体。在多数情况下，受电子基不可能把给电子基提供的电荷全部接受下来，其电荷往往分布在整个共轭体系中。因此，可把接受电子的整个共轭体系看作是复杂受电子基。这种体系也称为复杂给电子-受电子发色体。多数染料分子都属于给电子-受电子发色体。
CAS号：
性质：又称供电子-吸电子发色体。给电子-受电子发色体至少含有一个直接和共轭体系相联的给电子基，通过共轭桥与受电子基联接，形成发色体。在多数情况下，受电子基不可能把给电子基提供的电荷全部接受下来，其电荷往往分布在整个共轭体系中。因此，可把接受电子的整个共轭体系看作是复杂受电子基。这种体系也称为复杂给电子-受电子发色体。多数染料分子都属于给电子-受电子发色体。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条