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1)  Highly textured Al film
高织构铝薄膜
2)  texture thin film
织构薄膜
3)  film texture
薄膜织构
4)  textured C_(60) film
C_(60)织构薄膜
5)  Al thin film
铝薄膜
1.
Process technology for Al thin film deposited by DC magnetron sputtering;
直流磁控溅射制备铝薄膜的工艺研究
2.
The results show that the Al thin films are pure aluminum film with very fine grain.
采用直流磁控溅射法,在硅基片上制备铝薄膜。
3.
Process of Al thin film growth and its interaction with UO2 were investigated by auger electron spectroscopy(AES) and electron energy loss spectroscopy(EELS).
沉积过程中实时采集UO2表面的AES谱和低能电子损失谱(EELS),原位分析铝薄膜在UO2表面的生长过程和膜间界面反应。
6)  aluminum thin film
铝薄膜
1.
Determination of optical constants for aluminum thin film based on combined optimal algorism;
基于混合优化算法测定铝薄膜光学常数
补充资料:变形织构


变形织构
deformation texture

  类别按变形方式不同,变形织构可分为拉丝织构、挤压织构、锻造织构和轧制织构等;按织构类型可分为丝织构(线织构)、面织构和板织构等,它们分别用(uvw>、{入壳z}及{h走l}(uvw)密勒指数表示。(见织构) 金属的点阵结构不同,其变形织构也不同。feC金属的板织构有铜织构{112}(111)、S一织构{123}<634)、黄铜织构{011}(211)以及戈斯织构{011}<100)等;面织构有{110};丝织构有<111)和<10。)。bcc金属的滑移系多,变形织构较复杂,典型的板织构有{100}(011>、{112}(110)、{111}(ixZ)与{111}(110)等;面织构有凌112},丝织构有(110)。hep金属典型的板织构有{0001}(1120》;面织构有{0001};丝织构有<1010>和<0001)。以上变形织构各组分的相对强弱受合金元素的性质和含量、晶粒大小和形状、晶界和相界特性、变形热力学条件以及应力应变状态等许多内外因素的影响和控制。如feC金属越纯或轧制温度较高(不发生动态再结晶)时,{212}(212)与{123}(634)组分越强,易形成“铜型”织构,如图1所示;相反,合金元素含量较高或轧制温度低或变形程度大时,{011}(Zn>与{。11}(10山组分强,其他组分弱,易形成“黄铜型”织构,如图2所示。有人认为,织构由“铜型”向“黄铜型”转化受交滑移控制,但越来越多的研究表明,上述织构类型的转化是由孪生变形引起的。 RD叠 强度水平最大9.7 0 .5 1 .0 2.0 3.0 5.0 7.0 图1工业纯铜的轧制织构 (轧制温度:室温,。~95%) 变形织构模型许多科学工作者致力于变形织构形成理论的研究,提出了许多塑性变形模型,主要有萨克斯(E.Saehs)模型和泰勒(G.1.Taylor)模型,其他模型基本上是由它们派生出来的。1928年萨克斯假RO圆 强度水平最大42 0 .5 1 .02(】3 0 5.()7.0 图2 H70黄铜的轧制织构 (轧制温度:室温;。~95%)定各晶粒的受力状态都等于样品的宏观受力状态,并假定各滑移系上临界分切应力re为常数,当滑移系上的分切应力达到几时,该滑移系启动。若已知外施应力状态内,则滑移系s上的分切应力代~二急内(i,j一i,2,3)。式中ij重复表示求和,m乙一n“,a‘b‘”a,,:‘”为滑移系s滑移平面的法向矢量;b闭为滑移方向矢量;a为应力张量内坐标系矢量;括号内字母重复表示不求和。该模型适用于单晶体的自由变形,按最大取向因子m补选取滑移系s。但该模型对多晶体来说,忽视了各晶粒之间变形的相互限制和协调,各晶粒之间会形成“孔洞”或“堆集”。一些研究者放松了晶体的变形只由最大取向因子选取滑移系的限制,或者规定了对变形体外形的限制。尽管这样,该模型难以描述多晶体的塑性变形。 1938年泰勒提出另一塑性变形模型,假定金属中各晶粒的变形状态与样品的宏观变形状态相同。根据该模型,又考虑体积守恒及d。,一令(m乙十”目’勺。
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参考词条