1) VUV reflectance
真空紫外反射率
1.
Their vacuum ultraviolet (VUV) reflectance test shows that there exists a nearly exponent relation between VUV reflectance and surface roughness.
对样品的反射率测试表明:真空紫外反射率与基片表面粗糙度间存在着近似的指数关系;通过与用 PCGate 软件计算的结果比较,发现膜对基片表面粗糙度的"复制"效应明显,且基片表面粗糙时,膜的沉积有一定的"平滑"效应;成膜后的表面粗糙度对反射率影响比基片表面粗糙度要大得多。
2) Mirrors for VUV
真空紫外反射镜
3) VUV reflecting layer
真空紫外反射膜
4) Vacuum ultraviolet radiation efficiency
真空紫外辐射效率
6) UV or VUV radiation efficiency
紫外或真空紫外辐射效率
补充资料：真空紫外摄谱仪
分子式：
CAS号：
性质：用来研究波长小于195nm波段的原子或分子光谱摄谱仪。原子、多电离原子、分子的电子光谱在真空紫外区均具有自己的重要光谱。利用真空紫外摄谱仪可以研究它们的发射光谱和吸收光谱。在天文物理学的研究中，由于各种星云的发射光谱处于远紫外光谱区，所以该仪器也得到广泛应用。真空紫外摄谱仪分为棱镜(CaF2或LiF晶体)和凹面光栅式两种。在195～160nm和160～50nm光谱区的真空度分别应为1.33322～0.133322Pa(10-2～10-3托)和0.0133322～0.00133322Pa(10-4～10-5托)。
CAS号：
性质：用来研究波长小于195nm波段的原子或分子光谱摄谱仪。原子、多电离原子、分子的电子光谱在真空紫外区均具有自己的重要光谱。利用真空紫外摄谱仪可以研究它们的发射光谱和吸收光谱。在天文物理学的研究中，由于各种星云的发射光谱处于远紫外光谱区，所以该仪器也得到广泛应用。真空紫外摄谱仪分为棱镜(CaF2或LiF晶体)和凹面光栅式两种。在195～160nm和160～50nm光谱区的真空度分别应为1.33322～0.133322Pa(10-2～10-3托)和0.0133322～0.00133322Pa(10-4～10-5托)。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条