1) vacuum ultraviolet emissions
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外发射
2) Mirrors for VUV
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外反射镜
3) VUV reflectance
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外反射率
1.
Their vacuum ultraviolet (VUV) reflectance test shows that there exists a nearly exponent relation between VUV reflectance and surface roughness.
对样品的反射率测试表明:真空紫外反射率与基片表面粗糙度间存在着近似的指数关系;通过与用 PCGate 软件计算的结果比较,发现膜对基片表面粗糙度的"复制"效应明显,且基片表面粗糙时,膜的沉积有一定的"平滑"效应;成膜后的表面粗糙度对反射率影响比基片表面粗糙度要大得多。
4) vacuum ultraviolet lasers
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外线雷射
5) VUV radiation
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外辐射
1.
The results show that as the pressure and Xe fractions increasing,147 nm VUV radiation efficiency decreases,but 173 nm VUV efficiency increases.
为了提高共面介质阻挡放电(DBD)的真空紫外线(VUV)辐射效率,采用流体模型研究了Ne/Xe混合气体的压强及Xe含量对DBD真空紫外辐射特性的影响。
6) VUV reflecting layer
![点击朗读](/dictall/images/read.gif)
真空紫外反射膜
补充资料:真空紫外摄谱仪
分子式:
CAS号:
性质:用来研究波长小于195nm波段的原子或分子光谱摄谱仪。原子、多电离原子、分子的电子光谱在真空紫外区均具有自己的重要光谱。利用真空紫外摄谱仪可以研究它们的发射光谱和吸收光谱。在天文物理学的研究中,由于各种星云的发射光谱处于远紫外光谱区,所以该仪器也得到广泛应用。真空紫外摄谱仪分为棱镜(CaF2或LiF晶体)和凹面光栅式两种。在195~160nm和160~50nm光谱区的真空度分别应为1.33322~0.133322Pa(10-2~10-3托)和0.0133322~0.00133322Pa(10-4~10-5托)。
CAS号:
性质:用来研究波长小于195nm波段的原子或分子光谱摄谱仪。原子、多电离原子、分子的电子光谱在真空紫外区均具有自己的重要光谱。利用真空紫外摄谱仪可以研究它们的发射光谱和吸收光谱。在天文物理学的研究中,由于各种星云的发射光谱处于远紫外光谱区,所以该仪器也得到广泛应用。真空紫外摄谱仪分为棱镜(CaF2或LiF晶体)和凹面光栅式两种。在195~160nm和160~50nm光谱区的真空度分别应为1.33322~0.133322Pa(10-2~10-3托)和0.0133322~0.00133322Pa(10-4~10-5托)。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条