说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 铱源
1)  ~(192)Ir source
铱源
1.
Impact of the steel shell on dose distribution around ~(192)Ir source for branchytherapy;
蒙特卡罗方法计算后装铱源的不锈钢外壳对吸收剂量的影响
2)  Iridium-192 sources
铱-192源
1.
Usually, Iridium-192 sources are used in HDR brachytherapy for the treatment.
第二部分原理是文章的二、三、四章,首先介绍了后装近距离治疗相关知识,放射源的种类,铱-192源和后装室的简单介绍;其次是有关剂量学的基础知识的介绍,一些与剂量分析有关的量之间的关系;最后是粒子与物质的相互作用环节,包括两个方面:带电粒子与不带电粒子。
3)  iridium [英][ɪ'rɪdiəm]  [美][ɪ'rɪdɪəm]
1.
Kinetic spectrophotometric determination of trace iridium with oxidation of methyl blue by KIO_4;
高碘酸钾氧化甲基蓝动力学光度法测定痕量铱
2.
Colour Reaction of Iridium(Ⅲ) with 2-(5 -Bromo-2-pyridylazo)-5 -dimethylamino-aminobenzene and Its Application;
铱(Ⅲ)与2-(5-溴-2-吡啶偶氮)-5-二甲氨基苯胺的显色反应及其应用
3.
Discoloring Spectrophotomeric Deterination of Iridium(IV) by Iridium(IV)-Potassium Bromate-2-(4-Chloro-2-Phosphonopheny) azo-7-(2,4,6-trichloro-Phenyl)azo-1,8-dinyaroxy-3,6-uaphthalene Dieulfonie Acid System;
铱(IV)-溴酸钾-三氯偶氮氯膦褪色光度法测定微量铱
4)  iridium(Ⅳ)
1.
Catalytic discoloring spectrophotometry for the determination of trace amount of iridium(Ⅳ);
催化退色光度法测定痕量铱的研究
2.
Catalytic spectrophotometric determination of trace iridium(Ⅳ) using iridium(Ⅳ)-KIO_4-chlorophosphonazo-mA system;
铱(Ⅳ)-偶氮氯膦-mA-高碘酸钾体系催化光度法测定痕量铱
3.
Based on the catalytic effects of iridium(Ⅳ) on the oxidation reactions of orange G(OG) by KIO_4 in H_3PO_4 medium,a new kinetic spectrophotometric method for determination of trace iridium(Ⅳ) was established.
基于在磷酸介质中Ir(Ⅳ)对高碘酸钾氧化橙黄G(OG)退色反应的催化作用,建立了一个测定铱的新催化动力学光度法。
5)  Ir
1.
Research and application of microwave-assisted digestion technique for analysis of Rh,Ir,Pt,Pd in difficultly decomposed precious metals and their materials;
微波消解技术在分析难处理贵金属及其物质中铑、铱、铂、钯的研究与应用
2.
Study of the Ag, Rh, Ir complexes with 2-mercaptobenzothiazole by HPLC;
银、铑、铱与2-巯基苯并噻唑的配合物的高压液相色谱研究
3.
Small - scale Fire Assay and ICP - AES Determination of Pt, Pd, Rh, Ir in Geological Samples;
小试金-光谱法同时测定地质试样中的痕量铂、钯、铑、铱
6)  IrO2 coating
铱系
补充资料:河外射电双源和多重源
      河外射电展源中最典型的也是数量最多的(占40%)一种是双源。双源的最普遍的特征是,在相隔几万至两百万光年的距离上形成两块射电瓣(又称为子源)。证认出的光学对应体(星系或类星体)往往位于此两子源连线的中心。子源的远离光学母体的外边缘处射电亮度变化很陡,而且更接近最大值(此区域常是1″量级大小的致密成分),而向光学母体方向的则是亮度逐渐减弱的辐射延伸部分。最典型的代表是天鹅座A(见射电星系)。有时,光学母体两边是以两个强的外子源为主体的多个子源的组合结构,但仍然成为近似对称分布的所谓多重源。这种直线和对称排列的双源特征,在其所属的光学母体的致密射电区内有时能重现,就是说在不到双源的10-4~10-5的范围内,即在光学体小于0奬01(或几十光年)的区域内,仍然有成双的小致密源出现,而且里、外双源的连线基本上是一致的,例如,3C326、33C111、3C390.3、3C405等射电源。
  
  双源的普遍特性,如流量不变化,具有幂律谱 (Svv,平均频谱指数α 约为0.75), 有百分之几的线偏振而没有圆偏振,磁场为10-4~10-5高斯,射电光度强(1040~1045尔格/秒), 能量高(1058~1081尔格)等等都与一般展源相同。对双源已进行了大量的观测统计,得出的结果是两个子源的流量密度相差不大,平均只差40%。两个子源与光学母体的距离也相差不大,双源中较亮的子源更靠近光学母体,直径较小,频谱较平。两个子源之间的距离约为子源直径的 2~4倍。在双源间距为 6~100万光年的范围内,不同射电源的子源大致以同样方式膨胀和相互分离, 形成了从中心向外抛射的圆锥体(圆锥角约20°~50°)。源的光度越大,双源之间的距离越大,抛射圆锥也就越窄。射电源主轴方向(两个子源的连线方向)与光学星系主轴方向成各种交角,表明二者没有相关性。同样,射电源主轴与偏振方位角之间也没有明显的相关性。以全部双源为例进行统计,没有发现射电光度与频谱指数或展源直径或光学亮度之间有什么关系。子源明亮头部的线偏振只有百分之几,而在延伸向光学母体的局部地区的线偏振则达到百分之几十,甚至高达百分之七十。
  
  双源和多重源的这些特性提出了三个必须解决的问题:①成双的对称性和一线排列问题;②在极其稀薄的介质中,子源抛射膨胀成形而不瓦解的约束机制问题;③巨额能量的来源和转换方式以及如何向子源进行输运的问题。目前流行的模型基本上有三种:等离子体团抛射及膨胀,大质量物体的一次抛射,连续喷射束。
  
  

参考书目
   A.G.Pacholczyk,Radio Galaxies,Pargamon Press, Oxford, 1977.
  

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条