1) microwave CVD
微波CVD
1.
Diamond films necleus and its growth when deposited by microwave CVD on hard alloys are investigated.
采用微波CVD法对硬质含金表面金刚石的形核和金刚石薄膜的沉积进行了探索性研究，用激光喇曼谱仪对金刚石进行表征。
2) microwave ECR CVD
微波ECR-CVD
3) microwave chemical vapor deposition
微波CVD技术
4) microwave plasma CVD
微波等离子体CVD
1.
Diamond film deposition was conducted using microwave plasma CVD method and the low temperature deposition technique.
本文采用真空电子束蒸镀技术在多谱段ZnS衬底上沉积了适合金刚石膜沉积的致密陶瓷过渡层,并利用微波等离子体CVD金刚石膜低温沉积技术进行了金刚石膜沉积研究。
2.
Uniform and compact nanocrystalline diamond thin films were deposited on quartz tube substrate with the gas mixture of ethanol and hydrogen by microwave plasma CVD equipment which has a novel type of resonance cavity.
在具有新型谐振腔的微波等离子体CVD装置上,利用乙醇和氢气为工作气体在石英玻璃管外表面沉积了均匀、致密的纳米金刚石薄膜。
6) MPCVD
微波等离子体CVD法
1.
Diamond Film Growth on Non-planar Substrate by MPCVD;
微波等离子体CVD法在非平面基体上生长金刚石膜
补充资料：CVD method activated carbon fiber
分子式：
CAS号：
性质：由化学气相沉积法碳纤维而得的纤维。纤维直径0.5～1.0μm，形状长宽比为100～1000，电阻率1.0×10-3Ω·cm，结晶性良，纯度高，微孔径分布范围窄，均一性优良。原料采用乙烯，载体气体为氢气，在氢中的原料浓度为5%（vol），触媒粒子为二茂铁，用10.59μm的CO2激光照射，在常压下的石英反应器中滞留1h，便制得气相法碳纤维，再于1000℃的CO2中活化20min而得产品。用途为各种吸附剂和电子材料。
CAS号：
性质：由化学气相沉积法碳纤维而得的纤维。纤维直径0.5～1.0μm，形状长宽比为100～1000，电阻率1.0×10-3Ω·cm，结晶性良，纯度高，微孔径分布范围窄，均一性优良。原料采用乙烯，载体气体为氢气，在氢中的原料浓度为5%（vol），触媒粒子为二茂铁，用10.59μm的CO2激光照射，在常压下的石英反应器中滞留1h，便制得气相法碳纤维，再于1000℃的CO2中活化20min而得产品。用途为各种吸附剂和电子材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条