1) chemical vapor condensation
化学气相冷凝
1.
A two dimensional modeling of fluid flow in the laminr chemical vapor condensation reactor is presented, velocity and pressure fields are solved by means of the algorithm of SIMPLEC.
建立了化学气相冷凝反应器内层流状况下流体流动的数学模型，采用ＳＩＭＰＬＥＣ算法求解了反应器内速度和压力的分布，并对计算值和文献值进行了比较。
2.
A two dimensional modeling of fluid flow and heat tranfer in the laminar chemical vapor condensation reactor was presented.
考虑反应器内高温差带来的流体物性变化，建立了化学气相冷凝反应器内流体流动和传热过程的二维数学模型。
2) Gaseous condensate
气相冷凝物
3) exhaust condenser
气相冷凝器
1.
Failure analysis and reform countermeasure on the pipe bundles of exhaust condenser;
气相冷凝器管束失效分析及改进措施
4) vaporization-condensation
气雾化冷凝
1.
Microcrystalline magnesium containing Co (Mg(Co)) has been prepared by an arc vaporization-condensation method.
以气雾化冷凝技术制备了含Co的微晶镁粉Mg(Co)。
5) non-refrigerated liquefied gas
非冷凝液化气体
6) gas chemistry
气相化学
1.
0, a detailed thermochemical reaction mechanism of methane combustion chemistry, was used to simulate C/H gas chemistry in HFCVD diamond films reactors.
0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学数据,模拟并分析了HFCVD金刚石膜的C/H气相化学反应,通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成,结果与前人实验数据吻合。
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条