1) HfO_2
氧化铪
1.
The investigation of laser-induce damage threshold of HfO_2 films prepared with oxygen ion beam assisted deposition;
氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究
2.
Preparation of high-quality HfO_2 thin films on SOI materials;
在SOI材料上制备高质量的氧化铪薄膜
3.
Preparation of the UV Grade HfO_2
紫外级氧化铪的生产工艺研究
5) HfTiO
氧化钛铪
6) hafnium oxide sulfide
硫氧化铪
补充资料:氧化铪
CAS:12055-23-1
分子式:HfO2
分子质量:210.48
熔点:2812℃
中文名称:氧化铪
英文名称:hafnium oxide;hafnium oxide
分子式:HfO2
分子质量:210.48
熔点:2812℃
中文名称:氧化铪
英文名称:hafnium oxide;hafnium oxide
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条