1) Titanium deposited film
Ti沉积膜
2) thin film deposition
薄膜沉积
1.
Fresnel lens fabricated by thin film deposition;
薄膜沉积法制作菲涅耳透镜
2.
A novel technique-anodic vacuum arc coating for thin film deposition is reviewed in this paper.
本文介绍了一种新的薄膜沉积方法──阳极真空电弧镀膜法。
3.
The 16-step Fresnel lens had been fabricated by thin film deposition and ion beam etching and it has been used in refractive-diffractive CCD camera.
使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机。
3) deposited film
沉积膜
1.
The effects of the concentration of formamide and the current density on the morphology and La content of the deposited film were investigated.
使用尿素-NaBr-KBr-甲酰胺镀液用电沉积方法在硅基体上沉积出含有金属镧的沉积膜,研究了沉积液中甲酰胺的含量和电流密度等工艺参数对沉积膜的形貌和金属 La 含量的影响。
4) deposited Cu film
沉积Cu膜
5) film deposition
薄膜沉积
6) Deposition within the membrane
膜内沉积
补充资料：电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条