6) plasma load
等离子体负载
1.
According to the voltage and the wave of current in the thin film deposition and the computer simulation,this paper introduces the structure of power and the key technology,approaches the match of power and plasma load in arc ion plating and raises the design requirements of pulsed negative bias power in arc ion plating.
介绍了电源的结构和关键技术 ,并结合薄膜沉积试验中的电压、电流波形和计算机仿真分析 ,探讨了电源和电弧离子镀的等离子体负载间的匹配 ,提出了电弧离子镀脉冲负偏压电源的设计要
2.
This paper investigated on several problems of PBAIP, including its plasma load characteristic, pulsed bias power supply, the matching between pulsed bias power supply and plasma load of arc ion plating (AIP), and the "green" design of pulsed bias power supply.
本论文就其中电弧离子镀的等离子体负载特性、脉冲偏压电源及脉冲偏压电源与电弧离子镀等离子体负载间的匹配、脉冲偏压电源的绿色化设计等问题进行了深入研究。
补充资料：阳离子-阳离子干扰
分子式：
CAS号：
性质：火焰原子吸收光谱分析中，伴生阳离子对待测阳离子测定中信号的增强或抑制。它属于化学干扰；信号增强属于增感效应，信号被抑制属于干扰效应。如测定镁时铝存在可抑制镁的信号；测定铝时钛存在，可增强铝的信号。前者由于生成难解离的MgO·Al2O3，减少了镁的基态原子；后者是钛的亲氧能力比铝强，钛夺取了氧化铝中的氧，生成氧化钛，铝从氧化铝中释放出来。
CAS号：
性质：火焰原子吸收光谱分析中，伴生阳离子对待测阳离子测定中信号的增强或抑制。它属于化学干扰；信号增强属于增感效应，信号被抑制属于干扰效应。如测定镁时铝存在可抑制镁的信号；测定铝时钛存在，可增强铝的信号。前者由于生成难解离的MgO·Al2O3，减少了镁的基态原子；后者是钛的亲氧能力比铝强，钛夺取了氧化铝中的氧，生成氧化钛，铝从氧化铝中释放出来。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条