1) tungsten plus carbon dual implantation
钨和碳双注入
2) Carbon and tungsten dual implantation
C和W双注入
3) C+Ti dual implantation
C和Ti双注入
4) Wion implantation
钨离子注入
5) C+ implantation
碳注入
1.
Blue luminescence at about 431nm is obtained from epitaxial silicon after sequential processing of C+ implantation, annealing in hydrogen ambience and chemical etching.
外延硅经过碳注入、氢气氛下高温退火和电化学腐蚀相继处理之后,发出位于 431 nm 左右的蓝色荧光峰。
6) dual implantation
C和金属离子双注入
补充资料：蓝钨氢还原(见仲钨酸铵氢还原)
蓝钨氢还原(见仲钨酸铵氢还原)
hydrogen reduction of blue tung sten compound
Ianwu qing huanyuan蓝钨氮还原(hydrogen reduetion of bluetungsten compound)见仲钨酸按氮还原。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条