1) XPS spectra
XPS谱
1.
The XRD spectra and XPS spectra were measured for Sr doped La 1- x Sr x CoO 3 materials with perovskite structure prepared by the solid state reaction method.
测试了该材料的XRD和XPS谱 ,研究了不同热处理工艺对La1 -xSrxCoO3材料平均晶粒度的影响 ,研究了不同Sr掺杂量的La1 -xSrxCoO3阴极材料表面的化学状态。
2.
XPS spectra are obtained for the bleached and coloured statos in Ni2p3/2 and O1s regions.
着色没有自发过程，获取了着消色状态Ni2p3／2和O1s的XPS谱，表明在着色态镍被氧化，消色态镍被还原，相应地氧的化学环境发生改变。
2) XPS spectrum
XPS谱
1.
The analysis of XPS spectrum of thin films formed by Cu cluster beam deposited onto Si substrate;
用能量3keV流强为4～6μA/cm2Ar+束,预溅射处理样品表面后,用XPS分析,常规磁控溅射室温下得到的Cu/P-Si(111)样品和铜团簇束沉积,偏压分别为0,1,3,5,10kV的样品XPS谱和块状Cu标样谱基本一样,Cu2P1、Cu2P3、CuLMM特征峰位没有移动,反映不出原子结合能差异。
3) XPS spectra
XPS光谱
1.
The influence of source gas flow rate ratio on the film bonding configuration, sp 2/sp 3 hybrid ratios and optical band gap were investigated by Raman, Infrared transmission spectra, UV_visible spectra and XPS spectra.
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响 。
4) XPS
XPS能谱
5) XPS picture
XPS图谱
1.
This paper has been studied zirconia ceramic processing by isostatic method,The technology parameters are determined in the field of ZrO 2 ceramic to metal seal and finally,It shows XPS picture of reaction layer in the interfac
本文叙述了ZrO2 陶瓷用等静压工艺的制造方法 ,确定了ZrO2 陶瓷和金属封接的工艺参数 ,并且阐明了界面反应层的XPS图
6) XPS spectrometer
XPS谱仪
补充资料：XPS
分子式：
CAS号：
性质：也称化学分析用电子能谱（ESCA），即以X射线为激发源激发原子内层电子的光电子能谱。该方法可以通过测定1s电子的结合能来鉴定样品的化学元素。此外，通过考察光电子峰的位移（称为化学位移）可以研究化合物的化学键和电荷分布，探讨固体表面的结构问题。
CAS号：
性质：也称化学分析用电子能谱（ESCA），即以X射线为激发源激发原子内层电子的光电子能谱。该方法可以通过测定1s电子的结合能来鉴定样品的化学元素。此外，通过考察光电子峰的位移（称为化学位移）可以研究化合物的化学键和电荷分布，探讨固体表面的结构问题。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条