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1)  bismuth borate crystal
硼酸铋晶体
2)  bismuth triborate crystal
三硼酸铋晶体
3)  BSO crystal
硅酸铋晶体
4)  bismuth germanate crystal
锗酸铋晶体
1.
The etching morphology of bismuth germanate crystals grown by Bridgmanmethod were inverstigated.
研究了坩埚下降法生长锗酸铋晶体(BGO)的腐蚀形貌,比较了{112}、{111}、{110}、{100}晶面族的腐蚀形貌特征和速度,利用 X 射线劳厄定向并借助于极图确定了腐蚀坑的结晶学方位,推测了蚀坑的组成晶面主要是{112},其次是{110}。
5)  bismuth titanate crystals
钛酸铋晶体
6)  bismuthtriborate
三硼酸铋
补充资料:碲化铋晶体
分子式:Bi2Te3  
CAS号:

性质:周期表第V,VI族元素化合物半导体。三角晶,原胞为菱形六面体,晶格常数1.0473nm,密度7.8587g/cm3。熔点575℃。由共价键结合,有一定离子键成分。为间接带隙半导体,室温禁带宽度0.145eV,电子和空穴迁移率分别为0.135和4.4×10-2m2/(V·s),温差电优质系数1.6×10-3/K。采用布里奇曼法、区域熔炼法、直拉法制备。为良好的温差材料。

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