1) X-ray angle
射线角度
2) X-ray diffraction angle
X射线衍射角度
3) low-angle Xray diffraction
X射线小角度掠射法
4) Low-angle X-ray diffraction (LXD)
小角度X射线衍射(LXD)
5) small angle x_ray scattering
小角度x射线散射
1.
The evolution of microstructural parameters (mean size and volume fraction) of precipitates in three types of Al_Zn_Mg_Cu alloys during ageing has been studied by synchrotron_radiation small angle x_ray scattering (SAXS).
通过同步辐射小角度x射线散射方法 (SAXS) ,研究了三种Al_Zn_Mg_Cu合金沉淀析出过程显微结构参数 (析出相尺寸和体积分数 ) ,随时效温度和时效时间的演化 ,同时分析了Zn含量对合金沉淀析出过程的影响 。
6) x ray small angle scattering
x射线小角度散射
补充资料：Anglelapping角度研磨
angle lapping 的目的是为了测量junction的深度，所作的芯片前处理，这种采用光线干涉测量的方法就称之angle lapping。公式为xj=λ/2 nf即junction深度等于入射光波长的一半与干涉条纹数之乘积。但渐渐的随着vlsi组件的缩小，准确度及精密度都无法因应。如srp(spreading resistance prqbing)也是应用angle lapping的方法作前处理，采用的方法是以表面植入浓度与阻值的对应关系求出junction的深度，精确度远超过入射光干涉法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条