1) Reactive low voltage ion plating
低压反应离子镀
1.
Physical process of reactive low voltage ion plating;
低压反应离子镀的物理过程
2.
Preparation of ITO films by reactive low voltage ion plating;
低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜
2) Low voltage reactive ion plating
低压反应离子镀
1.
WO 3 thin films were prepared by vacuum electron beam evaporation low voltage reactive ion plating technology.
采用真空电子束蒸发低压反应离子镀技术制备 WO3 电致变色薄膜 ,对比研究在玻璃衬底和塑料衬底上制备的 WO3 薄膜的物理特性、电化学特性和电致变色特性。
3) RLVIP
低压反应离子镀(RLVIP)
4) Reactive ion plating
反应离子镀
1.
Films with sheet resistance of 34Ω/□ and peak transmittance of 89% in visible region have been deposited on K9 glass substrate by reactive ion plating deposition.
采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
5) ME ARE
活性反应离子镀
6) AIP at low temperatures
低温电弧离子镀
补充资料：低压电弧离子源
分子式：
CAS号：
性质：一种放电型离子源，结构类似于电子电离源，工作气体压力1.0～0.1Pa，电阴极灯丝发射电子束，在阳极引力作用下，以一定的能量与试样气体碰撞，产生低压弧光放电，导致气体电离。低压电弧离子源能产生很强的离子流，常被用在大型电磁分析器上。
CAS号：
性质：一种放电型离子源，结构类似于电子电离源，工作气体压力1.0～0.1Pa，电阴极灯丝发射电子束，在阳极引力作用下，以一定的能量与试样气体碰撞，产生低压弧光放电，导致气体电离。低压电弧离子源能产生很强的离子流，常被用在大型电磁分析器上。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条