1) DC plasma nitriding
直流离子渗氮
1.
Since plasma is not formed on the component surface,many problems associated with the conventional DC plasma nitriding can be eliminated.
活性屏离子渗氮可以获得和直流离子渗氮同样的处理效果 ,并解决了直流离子渗氮技术多年来一直存在的许多难以克服的问题。
2) plasma nitriding
离子渗氮
1.
Specialized production of plasma nitriding in China;
论离子渗氮的专业化生产
2.
Plasma Nitriding Assisted by Hollow Cathode;
空心阴极辅助离子渗氮研究
3.
Application of ion sputtering in plasma nitriding of austenitic stainless steel
离子溅射在奥氏体不锈钢离子渗氮中的应用
3) ion nitriding
离子渗氮
1.
Research on cyclic ion nitriding technology catalyzed by rare earth for 2Cr13 stainless steel;
2Cr13不锈钢的稀土催渗循环离子渗氮工艺研究
2.
Application of argon atmosphere ion nitriding in improving the thermal fatigue behavior of steel H13;
氩气氛离子渗氮提高H13钢热疲劳性能
3.
Wearability of 4Cr2MoWVNi and H11 die steels after ion nitriding;
4Cr2Mo WVNi与H11模具钢离子渗氮耐磨性能研究
4) ion-nitriding
离子渗氮
1.
A new model of ion-nitriding based on variant diffusion coefficient;
变扩散系数离子渗氮模型的建立与验证
2.
Contraposing the special use and performance request of 7Mn15Cr2A13V2WMo nonmagnetic bearing steel,the ion-nitriding process after the aging process was adopted.
通过调整离子渗氮气氛中氮的百分比含量,并根据时效硬化钢的特性,在不降低钢材基体硬度和表面硬度的前提下,适当提高离子渗氮温度,加快渗速,最终获得硬度和韧性较高的γ′相及少量 Fe3N 化合物的表层及足够的层深,而且渗层氮化物形态、疏松均获得满意的结果。
5) ionitriding
离子渗氮
1.
Construction, special function, furnace temperature uniformity and tentative application of PNHP miero -pulse ionitriding furnace have all been intreduced in this article.
本文介绍PNHP型微脉冲等离子渗氮炉的结构及其特殊的功能,炉温均匀性及初步应用情况。
2.
The increase in fatigue limit of 2Cr13 steel resulted from ionitriding treatment depends on.
离子渗氮提高２Ｃｒ１３钢光滑和缺口疲劳极限的幅度与疲劳薄弱环节出现的位置有关。
3.
The processes of low temperature ionitriding and gas nitrocarburizing for spiral springs have been studied.
研究了50CrVA钢油淬火弹簧的低温离子渗氮及低温气体氮碳共渗（软氮化）处理工艺，观察并分析了渗氮层组织形态及疲劳性能。
6) plasma nitriding
等离子渗氮
1.
Influence of shot-peening on plasma nitriding of H13 steel;
喷丸对H13钢等离子渗氮处理的影响
2.
Influence of plasma nitriding surface modifications of titanium implant on bacterial adherence
等离子渗氮表面处理对纯钛材料细菌黏附能力的影响
3.
DC-pulsed plasma nitriding has been developed into an important technique for strengthening metallic materials.
脉冲直流等离子渗氮处理已成为金属材料表面强化的重要方法。
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条