1) deposition by cathodic plasma electrolysis
等离子体电解阴极沉积
2) cathodic plasma liquid deposition
阴极等离子体液相沉积
1.
Preparation of alumina coating on stainless steel surface by cathodic plasma liquid deposition;
不锈钢表面阴极等离子体液相沉积氧化铝层
3) plasma electrolytic deposition
等离子体电解沉积
1.
Plasma electrolytic deposition (PED) is a new technology in surface engineering.
等离子体电解沉积(PED)是一门新兴的材料表面处理技术。
4) hollow cathode plasma chemical vapor deposition
空心阴极等离子体化学气相沉积
1.
In the paper, the principle of hollow cathode plasma chemical vapor deposition(HPCVD) is expounded briefly.
文章简要描述了空心阴极等离子体化学气相沉积(HPCVD)的原理,以及用HPCVD 方法制备CHN薄膜的工艺和实验结果。
5) plama electrolysis deposition
等离子体电沉积
6) cathodic vacuum arc deposition
阴极电弧离子沉积
补充资料：阴极沉积
分子式：
CAS号：
性质：电解盐类水溶液或熔盐制备金属或电解精炼提纯金属时，金属离子皆在阴极被还原并沉积析出，故称阴极沉积。沉积金属的状态与电极材料、离子浓度、温度等条件有关。
CAS号：
性质：电解盐类水溶液或熔盐制备金属或电解精炼提纯金属时，金属离子皆在阴极被还原并沉积析出，故称阴极沉积。沉积金属的状态与电极材料、离子浓度、温度等条件有关。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条