1) halogenating substitution reaction
卤化加成
1.
In this paper, research progress in the studying of high efficiency halogenation agent in recent years was reviewed and the application of a series of high efficiency halogenating reagents in halogenating substitution reaction and halogenating addition reaction were introduced.
本文对近年来在高效卤化试剂研究方面取得的进展进行了综述,介绍了系列高效卤化剂在卤化取代反应、卤化加成反应等方面的应用。
2) electrophilic addition halogenation
亲电加成卤化
1.
On the basis of the second mechanism of vinyl chloride synthesis,the authors propose definitely that the reaction mechanism of vinyl chloride synthesis is that of unsaturated hydrocarbon electrophilic addition halogenation,and make researches in the new mechanism.
在第二种氯乙烯合成反应机理的基础上,明确提出氯乙烯合成为不饱和烃的亲电加成卤化机理,并对该机理进行了阐述。
3) halogen addition
卤素加成
4) electrochemical hydrodehalogenation
电催化加氢脱卤
5) cyanogens halide-phenol synthesize method
卤化氰-酚合成法
6) imaging system of silver halide
卤化银成像体系
补充资料：加成-氧化加成
分子式：
CAS号：
性质： 反应基质分子在配位不饱和的过渡金属络合物上配位，从而使其活化，是进行络合催化反应的必要步骤。配位不饱和的络合物增加配位体的反应称为加成反应。可表示为：L4M+XF←←L4MX(X为CO或烯烃)；过渡金属络合物的配位体数和中心金属氧化数同时增加的加成反应，称为氧化加成反应，其反应式可表示为：L4Mn++X-Y←→L4M(n+2)+XY
CAS号：
性质： 反应基质分子在配位不饱和的过渡金属络合物上配位，从而使其活化，是进行络合催化反应的必要步骤。配位不饱和的络合物增加配位体的反应称为加成反应。可表示为：L4M+XF←←L4MX(X为CO或烯烃)；过渡金属络合物的配位体数和中心金属氧化数同时增加的加成反应，称为氧化加成反应，其反应式可表示为：L4Mn++X-Y←→L4M(n+2)+XY
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条