1) DC arc plasma
直流电弧等离子体法
1.
Nanometer Ni particles have been obtained by DC arc plasma in methane gas and in a mixture of H_2 and Ar gas atmosphere respectively.
用直流电弧等离子体法分别在甲烷和(H2+Ar)气氛下制备了纳米镍粒子,利用XPS 和TEM等分析手段对两种纳米镍粒子的表层特征和形貌进行了分析,发现甲烷气氛下制备的纳米镍粒子表面包覆了多层碳膜,H2 +Ar 气氛下制备的纳米镍粒子由于要进行钝化处理表面包覆有氧化物膜(Ni2O3)。
2.
had been obtained by DC arc plasma in 100Torr methane(CH4) gas and a 760Torr mixture of H2 and Ar atmosphere respectively.
本文采用直流电弧等离子体法分别在760Torr(H_2+Ar)和100Torr甲烷气氛下制备了Fe、Co、Ni、Fe—Ni、Fe—Co、Co(C)、Ni(C)等多种磁性纳米粒子。
2) DC arc plasma
直流电弧等离子体
1.
Preparation of bismuth nanoparticles by DC arc plasma method
直流电弧等离子体法制备铋纳米粉体
2.
Chain shaped, well dispersal and nano-scale Ag-Cu-In-Sn powders were successfully prepared by DC arc plasma method.
利用直流电弧等离子体法成功制备了分散性较好的纳米链状Ag-Cu-In-Sn合金粉末。
3.
The pure nickel nanopowders were prepared by DC arc plasma evaporation method using self-designed and fabricated experimental apparatus.
采用自行研制的试验装置,用直流电弧等离子体蒸发法制备了高纯度的纳米镍粉。
3) DC arc plasma jet
直流电弧等离子体喷射
1.
Application of DC arc plasma jet in the commercialization of CVD diamond films;
直流电弧等离子体喷射在金刚石膜制备和产业化中的应用
2.
Numerical model for large area diamond film deposition by DC Arc Plasma Jet CVD method is proposed.
建立了直流电弧等离子体喷射ＣＶＤ大面积金刚石沉积数学模型。
3.
But during the process of producing diamond film by chemical vapor deposited technology, such as DC arc plasma jet, the problem of film cracking caused by excessive residual stresses has not been well solved yet.
本文以直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石厚膜为研究对象,以等离子体炬内外复杂的电、磁、热、力多场耦合变量以及金刚石膜热-力耦合条件下的应力为研究目标,对等离子体的流动和传热以及自支撑金刚石厚膜在制备中各个阶段的应力进行数值模拟,并揭示大尺寸金刚石厚膜发生开裂破坏的原因及其影响因素。
4) DC Arc Plasma Evaporation
直流电弧等离子体蒸发
1.
The nanometer tin powders were prepared by DC arc plasma evaporation method using a self-designed and fabricated apparatus.
采用高纯锡,通过自行设计的直流电弧等离子体蒸发设备制备了纯净的纳米锡粉。
5) DC are plasma jet CVD
直流电弧等离子体CVD
6) DC Arc hydrogen plasma
直流氢电弧等离子体
补充资料：等离子体-原子发射光谱法
分子式：
CAS号：
性质： 用等离子体焰产生的高温激发光源作为原子发射光谱的激发光源的一种仪器分析方法。在光谱分析中常用的有高频等离子炬和等离子体喷射源两种。应用氢-氧焰高频等离子炬时，可使铝、钡、镁、锌的测定灵敏度分别提高500，12,4000和5000倍；等离子体喷射源主要用于液体试样分析中，产生的谱线很强。由于喷射中用惰性气体，样品在高温中生成的氧化物和氢氧化物大大减少，因而提高了元素测定的灵敏度。
CAS号：
性质： 用等离子体焰产生的高温激发光源作为原子发射光谱的激发光源的一种仪器分析方法。在光谱分析中常用的有高频等离子炬和等离子体喷射源两种。应用氢-氧焰高频等离子炬时，可使铝、钡、镁、锌的测定灵敏度分别提高500，12,4000和5000倍；等离子体喷射源主要用于液体试样分析中，产生的谱线很强。由于喷射中用惰性气体，样品在高温中生成的氧化物和氢氧化物大大减少，因而提高了元素测定的灵敏度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条