1) GaN epitaxial film
GaN外延膜
2) α-GaN epitaxy thin film
α-GaN外延薄膜
3) p-type GaN epitaxial thin films
p型GaN外延薄膜
4) GaN epilayer
GaN外延层
1.
GaN epilayers were grown on Si substrates by reactive deposition in vacuum.
采用真空反应法在硅基上制备出了GaN外延层。
6) HVPE-ELO GaN
HVPE横向外延GaN
补充资料：gallium nitride GaN
分子式：
CAS号：
性质：白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性，不溶于水，不与水和浓无机酸反应，稍与稀酸作用，缓慢与碱液反应，空气中加热800℃开始氧化，生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050～1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
CAS号：
性质：白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性，不溶于水，不与水和浓无机酸反应，稍与稀酸作用，缓慢与碱液反应，空气中加热800℃开始氧化，生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050～1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条