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1)  two-step electroless nickel plating (TSENP)
两步化学镀
2)  Two-step electroless nickel-plating
两步法化学镀镍
3)  two-step chemical method
两步化学法
4)  Two-step chrome plating
两步法镀铬
5)  two step photoinduced reduction
两步光化学还原
6)  Two-step solution method
两步溶液化学法
补充资料:镀覆用化学品
分子式:
CAS号:

性质:在印制电路板生产中涉及到化学镀铜、电镀铜、电镀锡/铅、电镀金、电镀镍等许多镀覆工艺。在基板上镀覆金属镀层主要有以下作用:(1)在通孔上进行化学镀以使双面板正反面相连或使多层板各层相连;(2)电镀通孔或在板上电镀电路图形;(3)在电路上镀保护层以防其氧化并作为下道腐蚀工序的抗蚀镀层;(4)在印制板上镀覆接触键(插头座)。另外,在集成电路和电子元器件生产制造过程中也涉及许多镀覆工艺。镀覆化学品系指上述镀覆工艺使用的一系列化学镀液和化合物。化学镀液的技术性、专用性、配套性很强,同一类镀液各公司的配方不尽相同,镀液性能及其使用工艺对镀层的质量有很大影响。

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参考词条