1) plasma-aided nitriding
等离子体辅助渗氮
1.
Stress induced anisotropic diffusion during plasma-aided nitriding of a Ni-based superalloy;
Ni-基超合金等离子体辅助渗氮过程中的应力诱发各向异性扩散
2) Plasma-immersion ion implantation
等离子辅助浸渗
3) plasmaassisted
等离子体辅助
1.
AlN (Aluminum Nitride) polycrystalline films have been deposited by reactively pulsed laser ablation with plasmaassisted at low temperature.
使用等离子体辅助反应式脉冲激光溅射沉积薄膜的方法在Ｓｉ（１１１）和Ｓｉ（１００）基片上已经成功地低温制备出ＡｌＮ多晶膜。
4) implanting and nitriding
等离子体注渗氮
1.
The effects of technological parameters such as temperature and voltage on the microstructure,nanohardness and corrosion performance of 1Cr18Ni9 austenitic stainless steel treated by plasma based ion implanting and nitriding technique were investigated.
研究了等离子体注渗氮的温度和注渗电压对1Cr18Ni9奥氏体不锈钢注渗层组织结构、纳米硬度及腐蚀性能的影响规律。
5) plasma nitriding
等离子体渗氮
1.
Surface modification of plasma nitriding process on titanium bipolar plate
钛基双极板等离子体渗氮表面改性工艺的研究
2.
The effect of rare earth(RE) on the surface phase structure,the kinetics of layer growth and the microhardness profile in surface layer during plasma nitriding of 42CrMo steel were studied.
研究了稀土对42CrMo钢等离子体渗氮表面相结构、渗层增厚动力学及渗层显微硬度分布的影响;基于密度泛函理论,采用第一性原理赝势平面波方法计算了化合物层ε-Fe2-3N相的电子结构。
3.
Now there are many problemes in plasma nitriding processing ,for example , inaccurate flowmeter survey, invalid solenoid valves,low regulated precision and high price etc.
针对等离子体渗氮工艺过程中存在的转子流量计测量不准、调节精度低、质量流量控制器价格高、电磁阀失效等问题 ,设计了一种新的等离子体渗氮流量控制系统 ,该系统具有精度高、响应快、性能稳定、价格低的特
6) plasma source ion nitriding
等离子体源离子渗氮
1.
The potential E-pH diagram of the 13 pm-thick γN phase layer with a peak of nitrogenconceatration of 32%, which formed on the 1Cr18Ni9Ti austenitic stainless steel nitrided at 380 ℃ byplasma source ion nitriding, has been obtained in 3% NaCl solutions.
等离子体源离子渗氮1Cr18Ni9Ti不锈钢获得的峰值氮含量为32％，深度为13μm的单相高氮面心相（γN）表面改性层，与原始不锈钢相比较，在3％NaCl溶液中的E-pH图具有扩大的热力学稳定区、完全钝化区，以及缩小的不完全钝化区、孔蚀区。
2.
An amorphous boron-carbon-nitrogen film was syathesized by plasma source ion nitriding,that is nitrogen ion implantation at low energy (1-3 keV) and superhigh dose (1019-1020ions.
采用等离子体源离子渗氮，即低能（1-3keV）、超大剂量（10~(19)～10~(20)ions。
3.
A new surface modification method of electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma source ion nitriding is introduced to surface freatment of austenitic stainless steel for combined improvement in wear and corrosion resistance.
采用电子回旋共振（ＥＣＲ）微波等离子体源离子渗氮技术对奥氏体不锈钢进行氮化处理，获得与等离子体浸没离子注入（ＰＩＩ）结果相似的高硬度、高耐磨性表面改性层。
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条