1) tin-based oxides thin film
锡基氧化物薄膜
1.
Preparation of tin-based oxides thin films and its' electrochemical properties;
锡基氧化物薄膜的制备与电化学性能
2) ITO film
铟锡氧化物薄膜
5) Nickel based oxide films
镍基氧化物薄膜
6) indium tin oxide film
氧化铟锡薄膜
1.
The foreground of applying indium tin oxide film to heat-insulating and energy\|saving in glass field has been analysed.
分析了氧化铟锡薄膜应用于玻璃领域隔热节能的前景。
2.
The design principles of indium tin oxide film(ITO) to prevent lectrostatic discharge for optical solar reflector(OSR) are studied.
研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则 。
补充资料：二(三丁基锡)氧化物
分子式：C24H54OSn2
分子量：596.08
CAS号：56-35-9
性质：微黄色液体。沸点220-230℃（1.33kPa），180℃（0.27kPa），熔点低于-45℃，相对密度（25/4℃）1.17。不溶于水，与有机溶剂混溶。
制备方法：锡和氯气反应合成四氯化锡，再与氯丁烷和金属镁反应生成三丁基氯化锡。然后用氢氧化钠处理制得氧化双三丁基锡。工业产品含量93-95%。原料消耗定额：锡800kg/t、镁500kg/t、丁醇800kg/t。
用途：用来合成有机锡高分子树脂，制取用于船舶漆的防污剂、熏蒸剂、杀菌剂、杀藻剂。
分子量：596.08
CAS号：56-35-9
性质：微黄色液体。沸点220-230℃（1.33kPa），180℃（0.27kPa），熔点低于-45℃，相对密度（25/4℃）1.17。不溶于水，与有机溶剂混溶。
制备方法：锡和氯气反应合成四氯化锡，再与氯丁烷和金属镁反应生成三丁基氯化锡。然后用氢氧化钠处理制得氧化双三丁基锡。工业产品含量93-95%。原料消耗定额：锡800kg/t、镁500kg/t、丁醇800kg/t。
用途：用来合成有机锡高分子树脂，制取用于船舶漆的防污剂、熏蒸剂、杀菌剂、杀藻剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条