1) pre-deposition process
预淀积
1.
The diffusion was researched through analyzing characteristics of the pre-deposition process and the drive-in process.
结合预淀积和再分布两种条件下扩散的特点,采用两步法工艺制备了高浓度硼深扩散硅片,研究了影响杂质浓度和扩散深度的再分布与预淀积时间比。
2) boron pre-deposition
硼预淀积
1.
Effect of boron pre-deposition on size distribution of self-assembled Ge islands fabricated by UHV/CVD;
硼预淀积对自组织生长Ge量子点尺寸分布的影响
3) predeposit implant
预淀积注入
4) predeposition diffusion
预淀积扩散
5) pre-deposited indium nanodots
预淀积In纳米点
6) dopant predeposition
掺杂剂预淀积
补充资料：淀脚绡
1.瓜名。
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参考词条