1) physical vapor transport
物理气相传输
2) physical vapor transportation method
物理气相输运法
1.
The physical vapor transportation method(PVT)was adopted to purify ZnSe(4N)polycrystalline materials at 850℃±10℃.
采用物理气相输运法对ZnSe(4N)多晶原料在850℃±10℃进行提纯,再用高压坩埚下降法在1530℃、氩气保护气氛下生长出高质量ZnSe单晶体。
3) vapor transport
气相传输
1.
A vapor transport technique with a flowing helium gas carrier has been used to produce high quality C_(60) single crystals with size of millimeters,X-ray diffraction result indicated that the crystal is the face-centered cubic(fcc)structure with lattice parameter of 1.
本文采用气相传输方法，以氦气作为传输载体，生长了线度为毫米量级的Ｃ＿（６０）单晶体。
4) vapour-phase transport method
气相传输法
1.
The synthesis of zeolite beta by the vapour-phase transport method using tetraethylammonium bromide(TEABr)as a cheap or-ganic template was studied.
以廉价的四乙基溴化铵为模板剂,采用原料直接混合气相传输法合成β沸石。
5) Vapor transferring coating
气相传输涂层
1.
The vapor transferring coating method is a promising one, which can be used to make coatings on complex surfaces.
气相传输涂层技术不受零件尺寸和形状的限制 ,且涂层与基体之间有良好的结合力 ,是一种很有前途的涂层技术。
6) chemical vapor transport
化学气相传输
1.
Vapor phase extraction and separation of rare earth elements from bastnaesite-monazite mixed concentrate were investigated using chlorination and chemical vapor transport reaction mediated by vapor complexes LnAlnCl3n+3(Ln=RE elements).
以气态配合物LnAlnCl3n+3(Ln=稀土元素)为载体,研究了从氟碳铈矿-独居石混合精矿中提取分离稀土元素的分步氯化?化学气相传输反应。
2.
The preparation of anhydrous LuBr_3 by chemical vapor transport method is reported.
报道以化学气相传输法制备无水LuBr3。
3.
The preparation of anhydrous lanthanide bromides by chemical vapor transport method is reported.
以化学气相传输法制取无水LaBr3、GdBr3和LuBr3。
补充资料：物理气相外延
物理气相外延
physical vapour deposition
wullq一xlQng ChenJI物理气相沉积(physieal vapor deposition) 在真空条件下将涂层材料转变成蒸气态再沉积在基材表面的表面防护方法。 物理气相沉积(P VD)包括真空蒸发镀、真空溅射镀、离子镀和束流沉积技术等。 (1)真空蒸发镀。使膜材蒸发逸出并沉积于基材表面。到达基材表面的原子能量为0.1~leV，主要是无碰撞直线传输。 (2)真空溅射镀。利用荷能粒子轰击靶材，引起表面原子逸出并沉积于基材表面。由离子枪轰击靶材产生溅射称为离子束溅射。由辉光放电等离子体提供正离子，轰击高负电位靶材产生的溅射则称为等离子体溅射。对等离子体施加磁约束的磁控溅射技术具有高速和低温两大特点。向沉积室引人反应气体使之与溅出的靶材原子发生化学反应形成化合物薄膜称为反应溅射。对绝缘体靶材须采用射频溅射，常用频率为13.56MHz。 (3)离子镀。是在上述两种镀膜技术基础上发展起来的技术。该技术可使粒子能量提高到10~SO0ev，显著改善膜的附着强度。 (4)束流沉积技术。是利用离化粒子流作为蒸镀膜物质，可在较低温度下形成具有良好特性的薄膜。既可以在基材表面先用普通沉积技术沉积金属或合金薄膜，然后再用几个keV到lokeV离子束轰击使之形成亚稳态组织，也可以边沉积边用高能离子束轰击。PVD技术广泛用于制备光学、半导体器件、耐磨耐蚀刀具、工具、机械零件以及装饰涂层等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条