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1) vapor transport equilibration (VTE)
气相传输平衡技术(VTE)
2) vapor transport equilibration technique
气相传输平衡法(VTE)
3) vapor transport equilibrium
气相传输平衡法
1.
2arcsec when the crystal was modified by vapor transport equilibrium(VTE) technique.
采用气相传输平衡法(vaportransportequilibrationtechnique,VTE)工艺对晶体改性,半高宽(FWHM)值从116。
4) vapor transport equilibration
气相传输平衡
1.
Crystallineβ-BBO thin films were successfully prepared on(001)-oriented Sr~(2+)-dopedα-BBO substrates by using liquid phase epitaxy,pulsed laser deposition and vapor transport equilibration techniques.
采用液相外延法、脉冲激光沉积法以及气相传输平衡法在Sr~(2+)∶α-BBO(001)衬底上生长了质量优异的β-BBO薄膜,对薄膜进行了X射线衍射测试以及双晶摇摆曲线分析,结果表明,采用Sr~(2+)∶α-BBO单晶作为衬底制备的β-BBO薄膜具有高的择优取向度和低的半峰宽值。
2.
In order to find a new substrate which can probably substitute the sapphire for GaN epitaxy,a single phase and polycrystalline γ-LiAlO_2 layer has been prepared by vapor transport equilibration(VTE) for 48 hours at 1000 ℃,1030 ℃,1050 ℃,1070 ℃ and 1100 ℃,respectively.
为了寻找可能替代蓝宝石作为氮化镓外延的新型衬底,通过48 h的气相传输平衡,分别在1000℃、1030℃、1050℃、1070℃和1100℃制备了一层单相多晶的γ铝酸锂膜。
5) vapor transport equilibration
气相输运平衡
1.
It was prepared by the technique of vapor transport equilibration (VTE) under strict conditions.
通过气相输运平衡技术 ,严格控制生长条件和气氛 ,制备了化学组分均匀、光学质量优异的近化学计量组分Er:LiNbO3 晶体。
2.
In the first part of this dissertation, spectroscopic properties of as-grown, annealed,and vapor transport equilibration (VTE) treated Er~(3+)(/Yb~(3+)): LiNbO_3 crystals werestudied in detail.
本文的第一部分详细研究了as-grown、退火和气相输运平衡(VTE)处理的Er~(3+)(/Yb~(3+)):LiNbO_3晶体的光谱特性。
3.
Vapor transport equilibration (VTE) is a practical and effective method to alter the Li-composition in a congruent LiNbO_3 crystal.
气相输运平衡是改变铌酸锂晶体组分的一种实用,有效的方法。
6) gas-liquid phase equilibrium technique
气液平衡技术
补充资料:化学气相沉积技术在冷拔模具上的应用
化学气相沉积(CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一项先进技术。上海冷拉型钢厂将这项技术应用于模具,取得显著效益。 一、概况 化学气相沉积(CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一门先进技术,尤其在电子、半导体、机械、仪表、宇航等领域的应用发展极其迅速。所谓化学气相沉积(简称CVD),就是利用化学反应的原理,从气相物质中析出固相物质沉积于工作表面形成镀层薄膜的新工艺。通常使用的涂层有:TiC、TiN、Ti(C.N)、Gr7O3、Al2O3等。以上几种CVD的硬质涂层基本具备低的滑动摩擦系数,高的抗磨能力,高的抗接触疲劳能力,高的表面强度,保证表面具有足够的尺寸稳定性与基体之间有高的粘附强度。 该项技术在冷拔模具上的推广应用,对传统的冷拔模具的制造是个突破。原来模具的抗磨能力,抗接触疲劳能力及摩擦系数等机械性能是靠模芯材料来实现的,采用该技术后,基体材料的这些性能已为涂层所替代。 二、工艺特点 1. 由于CVD技术用于模具表面处理,大大增强了模具基体的强度,故采用硬质合金模具冷拔时的工况须稳定,减少冲击因素,以免模具崩裂。 2. CVD硬质深层只有10μm厚,带来了模具无法重磨的矛盾,因此在制模前要预计模芯镶套,以及材料拉拔过程中反弹等影响尺寸精度等因素。 3. TiN涂层置于空气下,升温至600℃开始氧化,并随温度升高,时间增加氧化愈严重,被氧化的深层将失去抗磨、抗粘结等性能,从而影响模具的寿命,因此CVD模具镶套宜采用冷压配的方法,若采用热镶套,温度应控制在600℃以下。 三、应用情况 1. 目前主要对高速连续拉拔模具、不锈钢和小规格的异型模具所用YG8硬质合金模芯进行高温气相沉积(900℃~1050℃),主要沉积物为TiC、Ti(C.N)、TiN三种复合涂层。其中与硬质合金直接接触的是TiC沉积,它与基体有良好的结合强度,厚4μm;中间一层为Ti(C.N)沉积,厚4μm;表面一层为TiN沉积,呈金黄色,厚2μm。 2. CVD技术用于冷拔模具,在型钢拉拔过程中,效果是十分明显的,主要表现在:模具寿命提高,一般情况下,比未经CVD处理模具寿命提高3倍以上,润滑条件大为改善,尤其在高速拔制和不锈钢材料拔制,效果尤为明显;模具耐磨性好,产品尺寸稳定,摩擦系数低,拔制力下降。 目前CVD技术主要对硬质合金模具进行表面处理,今后趋势是以模具钢来替代硬质合金。此类模具的综合性能将更为完美。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条
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