1) titanium oxide film
氧化钛薄膜
1.
Formation of functional group on titanium oxide films induced by plasma treatment;
氧化钛薄膜表面等离子体处理引发官能团形成的研究
2.
on beam enhanced deposition was used to synthesize titanium oxide film.
本文研究了离子束增强沉积技术制备的氧化钛薄膜的血液相容性与薄膜的结构、成分、表面能，以及蛋白质在薄膜表面的吸附之间的关系。
2) TiO2 thin film
二氧化钛薄膜
1.
Coating the TiO2 Thin Film on the Active Carbon with CVD and Photo-Catalytic Degradation of Acid Violet Red;
用CVD法在活性炭上镀二氧化钛薄膜光催化降解酸性品红
2.
The results show that TiO2 fine particle appeared anatase structure in TiO2 thin films,and formed the composite phase structure of anatase,rutile and Brookit of TiO2 powders.
实验结果表明:溶胶的陈化时间、膜的热处理温度、涂膜层数等都将直接影响二氧化钛薄膜的紫外可见光谱和禁带宽。
3) titania film
二氧化钛薄膜
1.
The results of SEM and TF-XRD indicate that a titania film layer with anatase and rutile structure was formed on the surface of NiTi SMA after oxidized with hydroxyl radical (·OH) as an oxidant.
通过高级氧化法对NiTi形状记忆合金进行表面改性,SEM和TF-XRD分析证实,羟自由基(·OH)氧化后的NiTi形状记忆合金表面生成了金红石和锐钛矿结构的二氧化钛薄膜。
4) TiO_2 thin films
二氧化钛薄膜
1.
TiO_2 thin films were prepared by DC reactive magnetron sputtering on ITO surface which deposited on glass substrates.
采用直流反应磁控溅射的方法在镀有ITO的导电玻璃衬底上沉积了二氧化钛薄膜 ,分别用拉曼光谱和吸收光谱研究了薄膜的结构 ,通过光电流研究了二氧化钛薄膜的紫外光响应。
2.
Photo-catalytic TiO_2 thin films illustrate a good prospect of application as a kind of green environmental protection material in the area of air purification, waste water treatment, bacillus resistance, pollution elimination, mist prevention and self-cleanness.
光催化剂二氧化钛薄膜作为绿色环保材料在空气净化、废水处理、抗菌、除污防雾,自洁净等方面有着诱人的应用前景。
3.
Our experiment has fabricated TiO_2 thin films succefully and the decoloration rate are 12.
且利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外—可见光谱仪(UV/vis),对二氧化钛薄膜及其多孔膜进行了表征。
5) amorphous titanium dioxide film
非晶氧化钛薄膜
6) titanium dioxide film
二氧化钛薄膜
1.
The porous titanium dioxide film in nano crystalline has been prepared by anodic oxidation on titanium.
用阳极氧化法制备多孔状的纳米晶二氧化钛薄膜 ,通过往阳极氧化的电解液中添加Fe3+ ,使其进入二氧化钛薄膜中 ,研究了掺杂Fe3+ 对二氧化钛薄膜吸收光谱和光催化活性的影响。
补充资料：氮化钛薄膜电阻材料
分子式：
CAS号：
性质：一种中阻值的薄膜电阻材料。电阻率(279～300) μΩ·cm，电阻温度系数小于±10-4/℃。采用反应蒸发、反应溅射和化学气相沉积等方法制取。主要用于薄膜混合集成电路中制作薄膜电阻器。
CAS号：
性质：一种中阻值的薄膜电阻材料。电阻率(279～300) μΩ·cm，电阻温度系数小于±10-4/℃。采用反应蒸发、反应溅射和化学气相沉积等方法制取。主要用于薄膜混合集成电路中制作薄膜电阻器。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条