1.
electron chrome mask
电子束光刻用铬掩模
2.
Chromium masks last1 o to100 times longer than the emulsion masks.
铬掩模的使用寿命比乳效掩模的长10~00倍.
3.
Chromium masks last 1o to 100 times longer than the emulsion masks.
铬掩模的使用寿命比乳效掩模的长10~100倍.
4.
Chrome thin films for hard surface photomasks
GB/T15870-1995硬面光掩模用铬薄膜
5.
mask programmable integration
掩模可编程序集成电路
6.
Hard surface photomask substrates
GB/T15871-1995硬面光掩模基板
7.
electron beam generated mask
电子束技术制造的掩模
8.
hard-surface in-contact mask
表面坚固内接触掩模
9.
electron beam mask generator
电子束掩模图象发生器
10.
mask program read-only memory
掩模程序只读存储器
11.
photoresist mask pattern
光致抗蚀剂掩模图形
12.
electron beam mask system
电子束掩模制造系统
13.
mask programmable memory
掩模可编程序存储器
14.
trench mask definition
槽腐蚀用掩模图象形成
15.
masking clean / etch statio
掩模板清洗[腐蚀]台
16.
fixed-mask type ROM
固定掩模型只读存储器
17.
computer aided mask preparation
计算机辅助掩模制备
18.
Research on Steganography Security Models and Universal Steganalysis for Images;
图像掩密安全性模型和通用掩密分析技术研究