1.
Design of Maskless Lithography Image System Based on DMD;
基于DMD的数字无掩模光刻成像系统设计
2.
Proton beam writing of microstructures on Shanghai SPM system
高能聚焦质子束无掩模刻写方法研究初步
3.
The beam division method in maskless laser interference photolithography can be divided into wave-front division and amplitude division.
无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。
4.
GPS Radio Occultation Technique and CHAMP Occultation Data Retrieval;
无线电掩星技术与CHAMP掩星资料反演
5.
Nothing can extenuate his base conduct.
他的卑鄙行为无可掩饰。
6.
Their left flank was left in the air.
他们的左翼无掩护。
7.
Night could not curtain his guilt.
黑夜无法掩藏他的罪行。
8.
mask programmable integration
掩模可编程序集成电路
9.
Hard surface photomask substrates
GB/T15871-1995硬面光掩模基板
10.
electron beam generated mask
电子束技术制造的掩模
11.
hard-surface in-contact mask
表面坚固内接触掩模
12.
electron beam mask generator
电子束掩模图象发生器
13.
mask program read-only memory
掩模程序只读存储器
14.
photoresist mask pattern
光致抗蚀剂掩模图形
15.
electron beam mask system
电子束掩模制造系统
16.
mask programmable memory
掩模可编程序存储器
17.
trench mask definition
槽腐蚀用掩模图象形成
18.
electron chrome mask
电子束光刻用铬掩模