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1)  internal tin process
内锡法
2)  Mono-element internal-Sn (MEIT)
单组元内锡法(MEIT)
3)  Internally diffusing Sn
内锡扩散
4)  Sinemurian [si'nemuriən]
锡内穆阶(地)
5)  stannous method
亚锡酸法
6)  tin bath of float process
浮法锡槽
补充资料:扩散法铌三锡带材


扩散法铌三锡带材
diffusion少oeessed Nb3SntaPe

扩散法妮三锡带材dsffuss。n少oeessed Nb3sntape将锐带表面覆锡后进行加热扩散反应,从而在视基体表面生成锐三锡超导薄层,再外覆铜层而得到的锭三锡(Nb3Sn)超导带材。 自1965年M.G.本兹等人首创用扩散法制妮三锡带材的工艺以来,该法经历过不断的发展与改进。最初是妮带在纯锡熔池中浸渍后进行加热扩散反应,这样生成的妮三锡层凹凸不平,其中存在低临界温度超导相—NbsnZ、Nb6Sns等。后来,把泥带连续通过涂锡区后,接着经过反应区,两区间的温度皆为950一100OC,这就能连续生产视三锡超导带材,其Nb3异飞层也较均匀平整。进一步的改进是发展了低温成卷工艺,特别是在700℃低温下进行扩散反应的方法。它是向熔融锡池中加入40wt%的铜,使Nb3Sn的生成速率和单相百分率提高,从而使单一的Nb3Sn超导相带材的性能得以提高。中国则用成盘涂锡的锭带进行低温700OC扩散热处理的独特技术,大大提高了生产率。这种盘带用FeC14腐蚀后,可分开复绕成卷,便于应用。 扩散反应生成的扼三锡超导带材,长度可达千米以上。随后进行覆铜,其办法有两种。①钎焊法:将厚度为0.1一0.3mm的无氧铜钎焊在未与侥反应的残存的锡表面上。②电镀法:用通常的电镀法在反应带材表面镀上一层致密的铜层。 用扩散法制得的妮三锡超导带材,其零电阻转变温度T坦为17一18K,临界电流密度美一般为(1一2.6)只105A/emZ(4.2K,IOT)。为了提高扩散法Nb3Sn超导带的关,在妮基体中掺杂微量金属错,使Nb3Sn层的晶粒等轴化,微细的二氧化错粒子起磁通钉扎作用,提高了材料的磁通钉扎力,Jc值可高达4 .5X105A/cm“(4 .2K,10T)或以上。有关扩散法优三锡带材的丈与外场强的关系曲线见图。︵、它。\V︸。工1 1 13 15H(T、 扩散法Nb3Sn超导带材的关一H曲线 扩散法扼三锡超导带材在20世纪60年代后期已能小批量生产,并绕制成中、小型高场超导磁体,场强为IOT(4.2K)。锡线材所取代。但70年代中期以后,已为青铜法视三(唐先德周农)
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