1) LiF buffer layer
LiF修饰层
2) LiF/Ag
LiF/Ag修饰
3) LiF cathode buffer layer
LiF阴极修饰
4) Layer by layer medification
逐层修饰
5) multiple modification
多层修饰
1.
It can be caused by multiple modifications and different semantic relations.
多层修饰结构、语义关系不同都可以引起歧义。
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条