1) SiNx/Si multilayers
SiNx/Si纳米多层膜
1.
The SiNx/Si multilayers is deposited alternately by magnetron sputtering and appear to amorphous phase.
采用非平衡磁控溅射技术制备氢化硅薄膜和SiNx/Si纳米多层膜,并对其结构与性能进行了分析。
2) Si/SiNx/SiO2 multilayers
Si/SiNx/SiO2多层膜
1.
Si/SiNx/SiO2 multilayers are prepared on Si(100) at room temperature by radio-frequency (RF) magnetron sputtering.
采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。
3) Ge/Si multilayer structures
Ge/Si纳米多层膜
4) SiNx/SiO2 multilayers
SiNx/SiO2多层膜
1.
Si/SiO2 and SiNx/SiO2 multilayers were prepared on Si(100) at room temperature by radio-frequency(RF) magnetron sputtering.
采用射频磁控溅射法,制备了纳米Si/SiO2和SiNx/SiO2多层膜,得到强的可见光致发光,利用傅里叶红外吸收(FTIR)谱和光致发光(PL)谱,对其发光特性进行了研究,在374 nm和712 nm左右观察到强发光峰。
5) nc-Si/SiNx films
nc-Si/SiNx薄膜
6) nanomultilayer
纳米多层膜
1.
In order to clarify the scale-dependent interface diffusion behavior,the resistivity (ρ) and the specular reflection coefficient (P) of Ni/Al nanomultilayers deposited by magnetron sputtering as a function of the periodic number (n),Ni/Al modulated ratio (R) and modulated period (L) have been characterized by Fuchs-Sondheimer (FS)-Mayadas-Shatzkes (MS) model.
采用FS-MS模型研究了Ni/Al纳米多层膜的薄膜电阻率ρ及镜面反射系数P随周期数n、Ni/Al调制比R和调制波长L的演变规律,从而表征了多层膜界面扩散行为的尺度依赖性。
补充资料：SI
有机硅树脂简称SI，是由三乙氧基硅烷等缩合而成。溶于乙醇、丁醇、醋酸乙酯、丙酮、苯、甲苯、环己酮等。预聚体在低温下能快速固化，固化后的树脂硬度高、耐热、耐磨、耐辐射、耐水、防潮、耐大气老化，低温(-50℃)不脆化。透明度高，可见光透光率90％以上。无毒。
用作酚醛树脂和环氧树脂剂的改性剂，可提高耐热性和耐水性贮存于阴凉、通风、干燥的库房内。
用作酚醛树脂和环氧树脂剂的改性剂，可提高耐热性和耐水性贮存于阴凉、通风、干燥的库房内。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条