1) multi-line cumulate visibility
多流线累积可见度
2) cumulate visibility
累积可见度
3) Intergral linearity
累积线性度
5) majority-carrier accumulation
多数载流子积累
1.
The majority-carrier accumulation layer is formed in the drift region because of the extended gate when the device is in the on state,and the concentration of drift region is higher than that in conventional SOI-LDMOS with the same breakdown voltage due to from the additional electric field modulat.
由于扩展栅电极的电场调制作用使FSOI-LDMOS在比一般SOI-LDMOS浓度高的漂移区表面,包括折叠硅槽侧面形成多数载流子积累,积累的多数载流子大大降低了漂移区的导通电阻。
6) visibility cumulative percentage method
能见度累积百分率法
补充资料：仪表线性度
分子式：
CAS号：
性质：表征线性刻度仪表的校准曲线与规定直线的一致程度。线性度分为独立线性度、端基线性度和零基线性度。仪表的线性度误差是衡量线性仪表偏离线性程度的指标。线性度误差分为独立线性度误差、端基线性度误差和零基线性度误差。当仅称线性度误差时，是指独立线性度误差。线性度误差通常以仪表量程的百分数表示。
CAS号：
性质：表征线性刻度仪表的校准曲线与规定直线的一致程度。线性度分为独立线性度、端基线性度和零基线性度。仪表的线性度误差是衡量线性仪表偏离线性程度的指标。线性度误差分为独立线性度误差、端基线性度误差和零基线性度误差。当仅称线性度误差时，是指独立线性度误差。线性度误差通常以仪表量程的百分数表示。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条