1) dual targets sputtering
双靶共溅射
2) double-target sputtering
双靶溅射
3) direct current magnetron co-sputtering
双靶直流共溅射法
4) DC reactive magnetron co-sputtering with two targets
双靶直流磁控共溅射
1.
Cu-doped TiO2 thin films were prepared by DC reactive magnetron co-sputtering with two targets.
采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。
5) More target sputtering together
多靶共溅射
6) bi targets reactive sputtering
双靶反应溅射
补充资料：双[1-(4-二甲氨基)苯基2-苯基1,2-二硫代乙烯合镍]
分子式：
CAS号：
性质：紫黑色单斜晶体。熔点277～278℃。溶于苯、甲苯、三氯甲烷等大多数有机溶剂。红外频率υ(C＝S)1190、1165、1140cm-1,红外频率υ(S-C-C-S)880cm-1。由对二甲氨基安息香、五硫化二磷在二噁烷(二氧六环)中反应后,加入镍(Ⅱ)盐溶液制得。用作光学非线性材料。
CAS号：
性质：紫黑色单斜晶体。熔点277～278℃。溶于苯、甲苯、三氯甲烷等大多数有机溶剂。红外频率υ(C＝S)1190、1165、1140cm-1,红外频率υ(S-C-C-S)880cm-1。由对二甲氨基安息香、五硫化二磷在二噁烷(二氧六环)中反应后,加入镍(Ⅱ)盐溶液制得。用作光学非线性材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条