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1)  nonlinear suspension
非线性悬架参数
2)  non-linear suspensions
非线性悬架
3)  Nonlinear automotive suspension
非线性汽车悬架
4)  nonlinear seat-suspension
非线性座椅悬架
1.
So researches on nonlinear seat-suspension are very impo.
大多数工程车辆采用的线性悬架,难以兼顾振动行程和人体舒适性的要求,而非线性座椅悬架可以很好的改善这一状况。
5)  non-linear air suspension
非线性空气悬架
1.
Based on building the non-linear air suspension model, this paper use the General Fuzzy Control, the S.
在对非线性空气悬架系统建模的基础上,本文分别采用常规模糊控制、参数自调整模糊控制和直接自适应模糊控制对被动悬架进行主动控制,通过对三种控制方法的理论研究和仿真分析,证明了常规模糊控制器对非线性空气悬架平顺性有一定改善,但因其模糊规则有一定主观性以及具有固定量化因子和比例因子的特性,故有其局限性。
6)  Suspension parameters
悬架参数
1.
Study of suspension parameters for reduction of road damage due to dynamic load;
减小动载荷道路破坏的悬架参数研究
2.
Taking a virtual prototype model as an example,a design method is presented,in which Taguchi robust optimum design technique is applied to the design of suspension parameters to improve the robustness in handling and stability of vehicles.
结合虚拟样机模型实例,介绍将Taguch i稳健优化设计方法应用于悬架参数设计,以提高车辆操纵稳定性能的稳健性方法。
补充资料:半导体非线性光学材料


半导体非线性光学材料
semiconductor nonlinear optical materials

载流子传输非线性:载流子运动改变了内电场,从而导致材料折射率改变的二次非线性效应。④热致非线性:半导体材料热效应使半导体升温,导致禁带宽度变窄、吸收边红移和吸收系数变化而引起折射率变化的效应。此外,极性半导体材料大都具有很强的二次非线性极化率和较宽的红外透光波段,可以作为红外激光的倍频、电光和声光材料。 在量子阱或超晶格材料中,载流子的运动一维限制使之产生量子尺寸效应,使载流子能态分布量子化,并产生强烈的二维激子效应。该二维体系材料中激子束缚能可达体材料的4倍,因此在室温就能表现出与激子有关的光学非线性。此外,外加电场很容易引起量子能态的显著变化,从而产生如量子限制斯塔克效应等独特的光学非线性效应。特别是一些11一VI族半导体,如Znse/ZnS超晶格中激子束缚能非常高,与GaAs/AIGaAs等m一V族超晶格相比,其激子的光学非线性可以得到更广泛的应用。 半导体量子阱、超晶格器件具有耗能低、适用性强、集成度高和速度快等优点,以及系统性强和并行处理的特点。因此有希望制作成光电子技术中光电集成器件,如各种光调制器、光开关、相位调制器、光双稳器件及复合功能的激光器件和光探测器等。 种类半导体非线性光学材料主要有以下4种。 ①111一V族半导体块材料:GaAs、InP、Gasb等为窄禁带半导体,吸收边在近红外区。 ②n一巩族半导体量子阱超晶格材料:HgTe、CdTe等为窄禁带半导体,禁带宽度接近零;Znse、ZnS等为宽禁带半导体,吸收带边在蓝绿光波段。Znse/ZnS、ZnMnse/ZnS等为蓝绿光波段非线性光学材料。 ③111一V族半导体量子阱超晶格材料:有GaAs/AIGaAs、GalnAs/AllnAs、GalnAs/InP、GalnAs/GaAssb、GalnP/GaAs。根据两种材料能带排列情况,将超晶格分为I型(跨立型)、n型(破隙型)、llA型(错开型)3种。 现状和发展超晶格的概念是1969年日本科学家江崎玲放奈和华裔科学家朱兆祥提出的。其二维量子阱中基态自由激子的非线性吸收、非线性折射及有关的电场效应是目前非线性集成光学的重要元件。其制备工艺都采用先进的外延技术完成。如分子束外延(MBE)、金属有机化学气相沉积(MOCVD或MOVPE)、化学束外延(CBE)、金属有机分子束外延(MOMBD、气体源分子束外延(GSMBE)、原子层外延(ALE)等技术,能够满足高精度的组分和原子级厚度控制的要求,适合制作异质界面清晰的外延材料。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条