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1)  Br_2-MeOH
溴-甲醇
1.
The InSb wafer is polished mechanically and further polished with a low concentration Br_2-MeOH solution.
用低浓度的溴-甲醇溶液对机械抛光后的InSb晶片进行了化学抛光,并对化学抛光前后的InSb晶片进行了表面形貌、总厚度偏差(TTV)、粗糙度、表面组分和杂质对比分析。
2)  Br_2-methanol
溴甲醇
3)  2,2-dibromomethylpropanol
2,2-二溴甲基丙醇
4)  tetrabromopxylene diol
四溴对苯二甲醇
5)  thihexinol methylbromide
溴甲噻环已醇
6)  6-bromo-3-pyridinyl methanol
6-溴-3-吡啶甲醇
补充资料:3,5-二溴邻氨基苯甲醇
分子式:C7H8Br2NO
分子量:暂无
CAS号:暂无

性质:暂无

制备方法:暂无

用途:暂无

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