1) Br_2-MeOH
溴-甲醇
1.
The InSb wafer is polished mechanically and further polished with a low concentration Br_2-MeOH solution.
用低浓度的溴-甲醇溶液对机械抛光后的InSb晶片进行了化学抛光,并对化学抛光前后的InSb晶片进行了表面形貌、总厚度偏差(TTV)、粗糙度、表面组分和杂质对比分析。
2) Br_2-methanol
溴甲醇
3) 2,2-dibromomethylpropanol
2,2-二溴甲基丙醇
4) tetrabromopxylene diol
四溴对苯二甲醇
5) thihexinol methylbromide
溴甲噻环已醇
6) 6-bromo-3-pyridinyl methanol
6-溴-3-吡啶甲醇
补充资料:3,5-二溴邻氨基苯甲醇
分子式:C7H8Br2NO
分子量:暂无
CAS号:暂无
性质:暂无
制备方法:暂无
用途:暂无
分子量:暂无
CAS号:暂无
性质:暂无
制备方法:暂无
用途:暂无
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条