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1)  Ni-Al film
Ni-Al薄膜
1.
The relation between the resistivity and the surface roughness about Ni-Al films is studied.
研究了在纳米厚度范围内,Ni-Al薄膜的电阻率与表面粗糙度的关系。
2)  Ni-Al nanocrystalline thin film
Ni-Al纳米晶薄膜
3)  Al/Ag/Al thin film
Al/Ag/Al薄膜
4)  Al-DLC thin films
Al-DLC薄膜
5)  Kapton/Al film
Kapton/Al薄膜
1.
The ground simulation tests of proton irradiation for Kapton/Al films were conducted using the space synthesis irradiating facility,in which the energy of protons was chosen as 90 keV, and the flux was 5.
采用空间综合辐照设备对Kapton/Al薄膜进行了质子辐照地面模拟试验,选取质子能量90keV,辐照通量5。
6)  Al film
Al薄膜
1.
The results indicate that the reaction of Al film with water and oxygen is finished in only 50 s, and the change rate is 24.
本文在25℃、相对湿度50%的条件下,分别蒸镀了Al,Al/Se薄膜,研究了它们在空气中的导电性能,试验结果表明,只需50s,Al薄膜的氧化反应已基本完成,其电阻率变化率为24。
补充资料:Ni

ni:

1 (non-intel,非英特尔架构)

除了英特尔之外,还有许多其它生产兼容x86体系的厂商,由于专利权的问题,它们的产品和英特尔系不一样,但仍然能运行x86指令。

2 美国国家仪器(ni)有限公司(national instruments)

national instruments (美国国家仪器有限公司,简称ni)创立于1976年,总部设于texas州首府austin,是一家测量行业的上市公司 (纳斯达克挂牌代号 nati) ,在世界各地设有50多个分公司和办事处,和众多系统联盟成员。

3

元素符号: ni 英文名: nickel 中文名: 镍

相对原子质量: 58.7 常见化合价: +2,+3 电负性: 1.91

外围电子排布: 3d 4s2 核外电子排布: 2,8,16,2

同位素及放射线: ni-56[6.1d] ni-57[35.6h] *ni-58 ni-59[76000y] ni-60 ni-61 ni-62 ni-63[100y] ni-64 ni-65[2.51h]

电子亲合和能: 111.5 kj·mol-1

第一电离能: 737 kj·mol-1 第二电离能: 1753 kj·mol-1 第三电离能: 3393 kj·mol-1

单质密度: 8.902 g/cm3 单质熔点: 1453.0 ℃ 单质沸点: 2732.0 ℃

原子半径: 1.62 埃 离子半径: 0.69(+2) 埃 共价半径: 1.15 埃

常见化合物: nibr2 nio niso4 nis nicl2

发现人: 克朗斯塔特 时间: 1751 地点: 瑞典

名称由来:

德语:kupfernickel(假铜)。

元素描述:

硬而柔韧的银白色金属。见于地壳局部,平均含量百万分之70。能被磨得光亮如镜,通常情况下绝不生锈。

元素来源:

主要见于镍黄铁矿[(ni,fe)9s8]中。镍金属的生产方法是在鼓风炉里加热矿石,于是矿石中的硫被氧置换。随后用酸处理生成的氧化物,铁就会与酸反应,而镍保留下来。

元素用途:

由于镍的耐腐蚀性,可用作镀层金属、制金属合金,也可用于制镍镉电池、作催化剂,以及铸造硬币。

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参考词条