1) buffering matrix
缓冲基体
1.
Carbon materials possess stable structure as well as good electro-conductivity, and are considered as ideal "buffering matrix" for silicon anode.
碳材料不仅具有一定的电化学活性,结构也较稳定,可以作为硅电极的"缓冲基体";具有高容量和优良循环性能的硅-碳复合负极材料已经成为该领域的研究热点。
2) matrix buffer
基体缓冲剂
1.
Dissolution of lubricating oil after incineration with HCI the interference of coexistent elements Ca Mg Zn P Fe can be eliminated by addition of NaCl solution as matrix buffer, then the worn copper is determined by ICP - AES.
将润滑油干灰化后用盐酸溶解,加入NaCl溶液作基体缓冲剂消除共存元素Ca、Mg、Zn、P、Fe的干扰,用电感耦合等离子体发射光谱进行铜元素测定。
3) BS buffering
基站缓冲
1.
This scheme greatly decreases the possibility of loss and duplication packets by a number of measures including BS buffering,forwarding mechanism and duplication elimination mechanism etc.
该方案通过基站缓冲、前向发送机制和重复包消除机制等措施,极大地减少丢包和重复的包。
4) cushioning effect of road base
基层缓冲
5) buffering gene
缓冲基因
6) buffer
[英]['bʌfə(r)] [美]['bʌfɚ]
缓冲体系
1.
Effect of ultra high pressure (UHP) on solubility of chickpea protein isolates (CPI) in different buffers (phosphate and Tris-HCl buffer) was investigated at pressures ranging from 100 to 600MPa.
研究了超高压(100~600MPa)对处于不同缓冲体系(磷酸盐和Tris-HCl缓冲体系)中鹰嘴豆分离蛋白溶解性的影响。
补充资料：缓冲剂
分子式：
CAS号：
性质：能被用来控制高温高压状态下气体逸度的固体组合。常用的缓冲剂有四类：(1)氧缓冲剂，是包括水在内的固体组合，在固定温度和总压条件下能产生恒定的氧逸度，用于H-O体系；(2)石墨缓冲剂，在一定温度和总压条件下，石墨的存在确定了体系的各种气相成分和逸度，用于C-O体系；(3)氧和石墨联合缓冲剂，用于C-O-H体系；(4)酸碱缓冲剂，fHZ由外部提供，纯固相银和纯液相氯化银在一定的温度和压力下平衡，即可产生固定的。fHCl，用于H-O-Cl体系。缓冲剂在电镀中能抑制电镀液pH值的变化。如镀镍溶液中加入硼酸，其缓冲范围与电镀液的pH值5～6接近，因而它能有效地抑制电镀过程中引起的阴极附近溶液pH值的变化。此外，在其他一些电镀溶液中，铵盐、醋酸盐、柠檬酸盐等也得到应用。
CAS号：
性质：能被用来控制高温高压状态下气体逸度的固体组合。常用的缓冲剂有四类：(1)氧缓冲剂，是包括水在内的固体组合，在固定温度和总压条件下能产生恒定的氧逸度，用于H-O体系；(2)石墨缓冲剂，在一定温度和总压条件下，石墨的存在确定了体系的各种气相成分和逸度，用于C-O体系；(3)氧和石墨联合缓冲剂，用于C-O-H体系；(4)酸碱缓冲剂，fHZ由外部提供，纯固相银和纯液相氯化银在一定的温度和压力下平衡，即可产生固定的。fHCl，用于H-O-Cl体系。缓冲剂在电镀中能抑制电镀液pH值的变化。如镀镍溶液中加入硼酸，其缓冲范围与电镀液的pH值5～6接近，因而它能有效地抑制电镀过程中引起的阴极附近溶液pH值的变化。此外，在其他一些电镀溶液中，铵盐、醋酸盐、柠檬酸盐等也得到应用。
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参考词条