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1)  double electron gun evaporation method
双电子枪蒸发法
1.
Zirconium vanadium alloy films were prepared by double electron gun evaporation method.
采用双电子枪蒸发法制备出锆钒二元合金膜,系统地研究了膜厚控制仪RatioControl参数、沉积温度和退火温度等关键参数对合金膜成分和物相的影响规律。
2)  E-gun evaporation
电子枪蒸发
3)  double source electron beam evaporation
双源电子束蒸发
1.
This paper introduces the formation of optical thin film by the double source electron beam evaporation,the Si/SiO_2 mixed thin film is evaporated on the K9 glass.
采用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO2得到的混合膜层,折射率不仅可调,而且比Si膜要高。
2.
A Si/SiO_2 mixed thin film is evaporated onto K9 glass by double source electron beam evaporation.
用双源电子束蒸发的方法,在K9玻璃基片上蒸镀Si和SiO_2的混合膜。
4)  electron beam evaporation
电子束蒸发法<冶>
5)  Double-cusp electron gun
双CUSP电子枪
6)  electron evaporation
电子蒸发
补充资料:双[1-(4-二甲氨基)苯基2-苯基1,2-二硫代乙烯合镍]
分子式:
CAS号:

性质:紫黑色单斜晶体。熔点277~278℃。溶于苯、甲苯、三氯甲烷等大多数有机溶剂。红外频率υ(C=S)1190、1165、1140cm-1,红外频率υ(S-C-C-S)880cm-1。由对二甲氨基安息香、五硫化二磷在二噁烷(二氧六环)中反应后,加入镍(Ⅱ)盐溶液制得。用作光学非线性材料。

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参考词条