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1)  N-doped TiO_2 thin film
N掺杂TiO_2薄膜
2)  N-doped TiO_2 film
氮掺杂TiO_2薄膜
1.
In this way, N-doped TiO_2 films are successfully prepared.
本论文提出了一种利用离子注入和后续退火制备氮掺杂TiO_2薄膜的方法,以实现TiO_2的可见光催化。
3)  N-TiO_2 film
N-TiO_2薄膜
1.
The aim of this investigation is to explore N-TiO_2 and Al/N-TiO_2 films with excellent hydrophilic property prepared by magnetron sputtering.
主要工作包括: (1)用TiN陶瓷靶,以O2、Ar为工作气体,采用射频反应磁控溅射法制备N-TiO_2薄膜。
4)  Al/N-TiO_2 film
Al/N-TiO_2薄膜
1.
The aim of this investigation is to explore N-TiO_2 and Al/N-TiO_2 films with excellent hydrophilic property prepared by magnetron sputtering.
(2)用Al/Ti金属镶嵌靶,以O2、N2和Ar为工作气体,采用直流反应磁控溅射法制备Al-TiO_2、N-TiO_2和Al/N-TiO_2薄膜。
5)  film doping
薄膜掺杂
6)  V and N co-doped TiO_2
N、V共掺杂TiO_2
补充资料:[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式:C16H16ClN3O3S
分子量:365.5
CAS号:26807-65-8

性质:暂无

制备方法:暂无

用途:用于轻、中度原发性高血压。

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参考词条