1) multi-cathode arc
多阴极弧
1.
In this paper,we use plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D) with multi-cathode arc source discharge multi-plasma arc mix equipment synthesize Ti-Al-Si-N multi-composite films on high-speed steel W18Cr4V.
本文采用装有多阴极弧放电的多元等离子弧混合装置的全方位等离子注入与沉积设备(PIII&D)在高速钢W18Cr4V基体表面制备了Ti-Al-Si-N多元复合膜层。
2) cathodic multi arc ion plating
阴极多弧离子
1.
TiN films grown on Ti as interlayers were prepared on AZ91C magnesium alloy substrate by cathodic multi arc ion plating.
采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究。
3) cathodic arc
阴极弧
1.
The system include pulse cathodic arc ion deposition,direct current cathodic arc ion deposition,magnetic sputtering and electronic beam evapora- tion technologies.
该系统集脉冲阴极弧离子镀、直流阴极弧离子镀、磁控溅射和电子束蒸发等镀膜工艺以及气体和金属离子注入于一体。
4) cathode arc
阴极电弧
1.
Preparation of Ti-Ni alloy hydrogen storage films by cathode arc method and research on their electrochemical characteristics;
阴极电弧法制备Ti-Ni合金贮氢薄膜及其性能研究
5) Multi cathode roots
阴极弧根
6) arc cathode
电弧阴极
补充资料：等离子弧切割
用等离子弧作为热源、借助高速热离子气体熔化和吹除熔化金属而形成切口的热切割。等离子弧切割的工作原理与等离子弧焊相似，但电源有 150伏以上的空载电压,电弧电压也高达100伏以上。割炬的结构也比焊炬粗大，需要水冷。等离子弧切割一般使用高纯度氮作为等离子气体，但也可以使用氩或氩氮、氩氢等混合气体。一般不使用保护气体，有时也可使用二氧化碳作保护气体。等离子弧切割有3类:小电流等离子弧切割使用70～100安的电流，电弧属于非转移弧，用于5～25毫米薄板的手工切割或铸件刨槽、打孔等；大电流等离子弧切割使用100～200安或更大的电流，电弧多属于转移弧（见等离子弧焊）,用于大厚度（12～130毫米）材料的机械化切割或仿形切割；喷水等离子弧切割,使用大电流,割炬的外套带有环形喷水嘴，喷出的水罩可减轻切割时产生的烟尘和噪声，并能改善切口质量。等离子弧可切割不锈钢、高合金钢、铸铁、铝及其合金等，还可切割非金属材料，如矿石、水泥板和陶瓷等。等离子弧切割的切口细窄、光洁而平直，质量与精密气割质量相似。同样条件下等离子弧的切割速度大于气割，且切割材料范围也比气割更广。（见彩图）
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条