1) carbon heavy ion
碳重离子
1.
The destination of the research was to estimate the damage irradiated by different LET or different dose of carbon heavy ion.
本课题以昆明小鼠作为研究对象,模拟空间重离子环境,采用不同传能线密度LET,不同剂量的碳重离子对昆明小鼠进行全身辐射,辐射后,对小鼠肝细胞的辐射损伤进行研究。
2) carbon ion
重碳离子
1.
Comparison of treatment planning by carbon ion radiotherapy and by intensity-modulated radiotherapy for prostatic adenocarcinoma;
前列腺癌重碳离子放疗计划与调强放疗计划的比较
3) rearrangement of carbon cation
正碳离子重排
4) Carbonium ion
正碳离子
1.
The results show that the formation of dry gas is abided by reaction mechanism involving the cleavage of pentacoordinated Carbonium ion which is formed by the protonation of alkanes over acidic catalyst.
结果表明,烷烃分子首先在催化剂酸性中心作用下发生质子化反应,烷烃分子链上易受到氢质子进攻的位置一般在其叔碳原子或碳链中心碳原子附近的C—H键或C—C键处,形成两种反应过渡态物种——五配位正碳离子H-Carbonium和C-Carbonium。
2.
Reaction trends of catalytic desulfurization of thiophene were determined based on the reaction energy needed, which was obtained with the AM1 calculation results of thiophene and possible carbonium ions on transition state.
采用半经验AM1计算方法 ,利用静态理论对噻吩在分子筛催化剂上的催化裂化脱硫机理进行了量子化学计算研究 ,通过对噻吩分子和可能产生的中间正碳离子的量子化学计算 ,得到各中间反应所需的能量 ,从而判断噻吩催化裂化脱硫反应的趋势 ,证实了氢转移反应在催化裂化脱硫中所起的作用 。
3.
Their adsorption rate on the molecular sieve catalysts surface and the stability of their carbonium ions were then obtained based on the molecular simulation on these molecules from their dipole moment, 2-dimensional electrostatic potential energy contours and 3-dimensional electrostatic potential energy isosurface.
采用半经验的AM1量子化学计算方法和静态理论 ,分别考察了噻吩、 3 甲基噻吩和 2 ,5 二甲基噻吩分子结构特性的不同 ,从偶极矩、各自垂直于芳香环平面的二维电势能分布曲线和整个分子周围三维电势能分布情况等方面分析了它们在分子筛催化剂表面吸附速度的快慢和生成正碳离子稳定性的高低 ,进一步比较了噻吩及其衍生物所生成的正碳离子进一步反应的能量变化 ,从而可判断噻吩及其衍生物裂化脱硫速度的快慢 ,噻吩及其衍生物裂化脱硫的速度由大到小分别为 :2 ,5 二甲基噻吩、 3 甲基噻吩、噻吩。
5) carbenium ion
正碳离子
1.
In the area of acid-catalyzed reactions,the most of hydrocarbon-converted reactions,such as fluid catalytic cracking,isomerization,alkylation and dimerization,are carried out according to the mechanism of carbenium ion reaction.
正碳离子是有机化学反应过程中一种活泼的反应中间体,对于它的研究已经有100多年的历史。
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条