1) mask epitaxial method
掩蔽外延方法;掩模外延法
2) self masking epitaxy
自掩蔽外延
3) Sb and Bi
掩蔽方法
4) six mask epitaxial process
六次掩蔽外延工艺
5) epitaxial lateral overgrowth without mask
无掩模横向外延过生长
6) double epitaxial method
双外延法
补充资料：掩蔽
分子式：
CAS号：
性质：在分析测定多种组分的试样时，共存组分对欲测组分常产生干扰，若在试液中加入一种能与干扰物质发生化学反应的某种试剂，使干扰物质的浓度降低至不致干扰测定反应的程度，从而消除了干扰。此过程称为掩蔽或掩蔽效应(masking effect)。所加入的试剂称为掩蔽剂(masking agent)。根据化学反应的类型不同，掩蔽剂可分为：络合掩蔽剂，它与干扰离子生成更稳定的络合物，这是应用广泛最重要的一类掩蔽剂；沉淀掩蔽剂，与干扰离子生成沉淀；氧化还原掩蔽剂，它是一种氧化剂或还原剂，能改变离子的价态。利用掩蔽法消除干扰，比采用分离方法省时、省力。掩蔽效率用掩蔽指数来衡量，常用符号lgαN(x)表示。N代表干扰离子，X代表络合掩蔽剂，αN(x)表示掩蔽效率。αN(x)=[N]+[NX1]+[NX2]+…+[NXn]/[N]=[N]总/[N]。取对数式lgαN(x)=lg[N]总/[N]。lgαN(x)称为掩蔽指数。式中[N]总表示干扰离子与络合剂X生成络合物各种型体浓度的总和，[N]表示游离干扰离子的浓度。显然，lgαN(x)值越大，游离[N]越少，说明掩蔽效率越高。
CAS号：
性质：在分析测定多种组分的试样时，共存组分对欲测组分常产生干扰，若在试液中加入一种能与干扰物质发生化学反应的某种试剂，使干扰物质的浓度降低至不致干扰测定反应的程度，从而消除了干扰。此过程称为掩蔽或掩蔽效应(masking effect)。所加入的试剂称为掩蔽剂(masking agent)。根据化学反应的类型不同，掩蔽剂可分为：络合掩蔽剂，它与干扰离子生成更稳定的络合物，这是应用广泛最重要的一类掩蔽剂；沉淀掩蔽剂，与干扰离子生成沉淀；氧化还原掩蔽剂，它是一种氧化剂或还原剂，能改变离子的价态。利用掩蔽法消除干扰，比采用分离方法省时、省力。掩蔽效率用掩蔽指数来衡量，常用符号lgαN(x)表示。N代表干扰离子，X代表络合掩蔽剂，αN(x)表示掩蔽效率。αN(x)=[N]+[NX1]+[NX2]+…+[NXn]/[N]=[N]总/[N]。取对数式lgαN(x)=lg[N]总/[N]。lgαN(x)称为掩蔽指数。式中[N]总表示干扰离子与络合剂X生成络合物各种型体浓度的总和，[N]表示游离干扰离子的浓度。显然，lgαN(x)值越大，游离[N]越少，说明掩蔽效率越高。
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参考词条