1) positive mask patter
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正掩模图
2) positive phototoo
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正像掩模
3) mask picture
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掩模图片
4) mask layout
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掩模草图
5) masking pattern
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掩模图案
6) original artwork
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掩模原图
补充资料:光学掩模版
分子式:
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号:
性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条