1) masked carbanion
掩蔽碳负离子
2) sheltering the interference ions
掩蔽干扰离子
3) masked ion implantation
掩蔽离子注入
4) carbanion
[英]['kɑ:bənaiən] [美][kɑr'bæn,aɪən, -,aɪ,ɑn]
碳负离子
1.
S_(RN)1 Reaction of 2,2,2-Trifluoroethyl Halides with Carbanion;
2,2,2-三氟卤乙烷和碳负离子的自由基亲核取代反应
2.
2,6-dichloro-5-fluoro-nicotine acid was treated with Sulphurous oxychloride,to give 2,6-dichloro-5-fluoronicotinoyl chloride,then reacted to carbanion.
以2,6-二氯-5-氟-吡啶-3-羧酸,二氯亚砜为原料发生亲核取代反应制得2,6-二氯-5-氟-吡啶-3-酰氯;以β二羰基化合物丙二酸二乙酯与乙醇镁反应生成强亲核试剂[C2H(COOC2H5)2]-碳负离子;它再与2,6-二氯-5-氟-吡啶-3-酰氯发生亲核取代反应制得(2,6-二氯-5-氟-吡啶-3-羰基)丙二酸乙酸乙酯;在对甲苯磺酸的作用下经过酯的水解和β-二酸的脱羧得目的产物(2,6-二氯-5-氟-吡啶-3-羰基)-乙酸乙酯。
5) isolation masking
隔离掩蔽
6) masking factor
掩蔽因子
1.
Secondly,the masking factor at each vertex based on an estimate of the averaged difference between the positions of connected vertices to the vertex is used for modification of the location of the vertices,and the strength of the watermark signal is adaptive with re.
首先将三维三角网格模型进行仿射变换,以获得模型的旋转不变性和缩放不变性;然后将各顶点邻域内顶点位置的平均差值作为掩蔽因子确定水印嵌入的强度,使得嵌入的水印具有不可见性。
2.
Second, the masking factor at each point based an estimate of on average difference between positions of connected vertices to a vertex is used for modifying imperceptibly the location of vertices.
该算法首先将三维网格模型进行仿射变换,以获得模型的旋转不变性、缩放不变性;然后,根据各顶点邻域内顶点位置的平均差值作为掩蔽因子确定水印嵌入的强度,使得嵌入的水印具有不可见性。
补充资料：掩蔽
分子式：
CAS号：
性质：在分析测定多种组分的试样时，共存组分对欲测组分常产生干扰，若在试液中加入一种能与干扰物质发生化学反应的某种试剂，使干扰物质的浓度降低至不致干扰测定反应的程度，从而消除了干扰。此过程称为掩蔽或掩蔽效应(masking effect)。所加入的试剂称为掩蔽剂(masking agent)。根据化学反应的类型不同，掩蔽剂可分为：络合掩蔽剂，它与干扰离子生成更稳定的络合物，这是应用广泛最重要的一类掩蔽剂；沉淀掩蔽剂，与干扰离子生成沉淀；氧化还原掩蔽剂，它是一种氧化剂或还原剂，能改变离子的价态。利用掩蔽法消除干扰，比采用分离方法省时、省力。掩蔽效率用掩蔽指数来衡量，常用符号lgαN(x)表示。N代表干扰离子，X代表络合掩蔽剂，αN(x)表示掩蔽效率。αN(x)=[N]+[NX1]+[NX2]+…+[NXn]/[N]=[N]总/[N]。取对数式lgαN(x)=lg[N]总/[N]。lgαN(x)称为掩蔽指数。式中[N]总表示干扰离子与络合剂X生成络合物各种型体浓度的总和，[N]表示游离干扰离子的浓度。显然，lgαN(x)值越大，游离[N]越少，说明掩蔽效率越高。
CAS号：
性质：在分析测定多种组分的试样时，共存组分对欲测组分常产生干扰，若在试液中加入一种能与干扰物质发生化学反应的某种试剂，使干扰物质的浓度降低至不致干扰测定反应的程度，从而消除了干扰。此过程称为掩蔽或掩蔽效应(masking effect)。所加入的试剂称为掩蔽剂(masking agent)。根据化学反应的类型不同，掩蔽剂可分为：络合掩蔽剂，它与干扰离子生成更稳定的络合物，这是应用广泛最重要的一类掩蔽剂；沉淀掩蔽剂，与干扰离子生成沉淀；氧化还原掩蔽剂，它是一种氧化剂或还原剂，能改变离子的价态。利用掩蔽法消除干扰，比采用分离方法省时、省力。掩蔽效率用掩蔽指数来衡量，常用符号lgαN(x)表示。N代表干扰离子，X代表络合掩蔽剂，αN(x)表示掩蔽效率。αN(x)=[N]+[NX1]+[NX2]+…+[NXn]/[N]=[N]总/[N]。取对数式lgαN(x)=lg[N]总/[N]。lgαN(x)称为掩蔽指数。式中[N]总表示干扰离子与络合剂X生成络合物各种型体浓度的总和，[N]表示游离干扰离子的浓度。显然，lgαN(x)值越大，游离[N]越少，说明掩蔽效率越高。
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参考词条