1) Electrostatic deflection CRT
静电偏转管
2) electrostatic deflection
静电偏转
1.
In this paper,the structure for the focus deflection svs-tem of the electrostatic deflection type is studied and analyzed.
该文对静电偏转型聚焦偏转系统的结构作了分析研究。
2.
Based on the SDS-3 E-beam lithography machine,the electrostatic deflection of the folded plate structure was used instead of the electrostatic deflection of the plate.
以SDS -3电子束曝光机为基础,用折板结构静电偏转替代直板结构静电偏转,探讨了电子束曝光机折板静电偏转场的电子轨迹与电位分布应满足的要求。
3.
The experimental results of SDS-3 Ebeam lithography machine show that the aberrations of the electrostatic deflection are in the same order of the magnetic deflection.
由SDS-3电子束曝光机试验结果表明,复合静电偏转可以达到磁偏转相似的像差水平。
3) electrostatic deflector
静电偏转板
1.
But due to the lower extraction efficiency of the SFC, on one hand, a lot of beam lost, and on other hand, outgas from the surface of the electrostatic deflector is serious because of beam hitting.
但由于SFC的引出效率比较低,只有30％左右,一方面损失了大量束流,另一方面许多束流损失在引出静电偏转板上,造成了大量出气,破坏了真空,难以维持长期大束流运行。
4) electrostatic deflection
静电偏向;静电偏转
5) magnetoelectric-electrostatic double deflection
磁电-静电双偏转
6) 900 electrostatic de-flector
900静电偏转器
补充资料：静电
分子式：
CAS号：
性质： 宏观范围内分离开来的相对静止的正电荷和负电荷。静电技术可用于除尘、喷漆、植绒、复印、分选等生产过程。在工艺过程中和人的行动中，可能产生和积累有害的静电。高分子材料容易产生和积累危险的静电。固体物料的大面积摩擦、高强度的接触-分离、强力挤出、粉碎和研磨；粉体物料的过滤、筛分、输送、搅拌和干燥、高速输送；液体物料的过滤、高速输送、喷射和冲刷；气体和蒸气的高速喷射等工艺过程都能产生强烈静电。工艺过程中所产生静电的电压可达数万至数十万伏。由于静电放电火花、静电力、静电场场强的作用，工艺过程中的静电可能引起爆炸和火灾，可能给人以电击，还可能妨碍生产和降低产品质量。
CAS号：
性质： 宏观范围内分离开来的相对静止的正电荷和负电荷。静电技术可用于除尘、喷漆、植绒、复印、分选等生产过程。在工艺过程中和人的行动中，可能产生和积累有害的静电。高分子材料容易产生和积累危险的静电。固体物料的大面积摩擦、高强度的接触-分离、强力挤出、粉碎和研磨；粉体物料的过滤、筛分、输送、搅拌和干燥、高速输送；液体物料的过滤、高速输送、喷射和冲刷；气体和蒸气的高速喷射等工艺过程都能产生强烈静电。工艺过程中所产生静电的电压可达数万至数十万伏。由于静电放电火花、静电力、静电场场强的作用，工艺过程中的静电可能引起爆炸和火灾，可能给人以电击，还可能妨碍生产和降低产品质量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条