1) impregnating cathode
浸渍阴极
2) dispenser cathodes
浸渍型阴极
3) Impregnated cathode
浸渍式阴极
4) Coated impregnate cathode
覆膜浸渍阴极
5) SDC-impregnated LSM cathodes
SDC浸渍的LSM阴极
6) positive impregnating solution
正极浸渍液
1.
The application of nitrous oxide-ethyne flamic absorbing spectral method to measure the content of Si in positive impregnating solution of Ni-Cd batteries was studied.
研究与运用一氧化二氮 乙炔火焰原子吸收光谱法进行镉镍电池正极浸渍液中硅含量的测定。
补充资料:阴极射线管成像型照排系统
由微型电子计算机、阴极射线管、照排主机及一些外围、附属机件组成的排版系统。主机不采用从字版以整个字为单元输出的排版方式,而是先将字符按照黑白线段法或轮廓线法等分解成"0"及"1"的数字化信息,存入磁性存储器中。排版主机由文字排版控制、输出控制及输出部分组成。输入部分的操作通过键盘 (也可以通过电信系统、电子计算机运算输出等方式 ),将需排的字符编码记录在穿孔纸带 、磁带 、软磁盘或光盘上。排版时将它装入输出控制部分,经过处理及按规定的排版指令输送到输出部分的阴级射线管组上。字符显示有飞点扫描、磁心存储与专用的文字信号发生器 3种方法,可以单字、字行或整页呈现在阴极射线管显示屏上。再经过简单的光学系统或直接在感光材料上成像,成为制作印版用的底片。采用信息化的方法进行排版,基本上省去了机械动作, 充分发挥电子计算机操纵排版的功能,速度可达 600~4000字符/秒。能在荧光屏上显示版面,便利编辑校改,或利用其他信息处理方式,直接输入组成版面,而且还可以与社会上的信息渠道沟通。是排版历史上又一次革新。
20世纪70年代后期,日本在此基础上研制生产了适于汉字排版的照排系统。代表机型是写研公司使用美国奥托罗吉克公司的APS-μ5组成的塞普窗系列和森泽公司与英国连诺公司合作推出的森泽-连诺照排机系列,是日文和汉字排版的主要机型之一。
20世纪70年代后期,日本在此基础上研制生产了适于汉字排版的照排系统。代表机型是写研公司使用美国奥托罗吉克公司的APS-μ5组成的塞普窗系列和森泽公司与英国连诺公司合作推出的森泽-连诺照排机系列,是日文和汉字排版的主要机型之一。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条