说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 离子氮化处理设备
1)  ionitriding treatment equipment
离子氮化处理设备
2)  plasma nitrocarburising
离子氮碳化处理
3)  Surface ionitriding processing
表面辉光离子氮化处理
4)  Ion nitriding and ion sulfur compound processing
离子氮化和离子硫化复合处理
5)  plasma pretreatment
氮等离子处理
6)  Nitrogen Plasmas treatment
氮等离子体处理
补充资料:碳化硅晶须补强碳化硅陶瓷基复合材料
分子式:
CAS号:

性质:以碳化硅陶瓷为基和以碳化硅晶须为增强剂的新型陶瓷材料。通过晶须的载荷转移、拔出及裂纹偏转作用,获得比普通碳化硅更高的强度和韧性。使用温度达1400℃。是一种重要的高温结构陶瓷。用于燃气轮机叶片等高温部件和耐磨件制造。采用原位生长工艺和烧结工艺制取。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条