1) ohmic plasma heating
欧姆等离子体加热
2) ohmic plasma loss
等离子体欧姆损失
3) plasma heating
等离子体加热
1.
The present paper introduces the principle and function of plasma heating for tundish ofcontinuous casting machine, the structure of heating facilities mainly used worldwide, the technicalsupport from manufacturers, investment comparison and the status of application at home andabroad.
介绍了连铸中间包等离子体加热的原理和诈用，国内外主要采用的加热装置结内、生产厂的技术支持、投资比较以及国内应用现状。
4) hydrogen plasma heating
氢等离子体加热
1.
A study of poly-silicon fims prepared by hydrogen plasma heating;
氢等离子体加热法晶化a-Si∶H薄膜
2.
Polysilicon thin films have been obtained by hydrogen plasma heating of a-Si:H films deposited by PCVD.
采用氢等离子体加热的方法晶化a-Si:H薄膜制备多晶硅薄膜,用Raman散射谱和傅里叶变换红外吸收谱(FT-IR)等方法进行表征和分析。
5) plasma heating device
等离子体加热器
6) plasma furnace
等离子体加热炉
补充资料：欧姆
| 欧姆（1787～1854） Ohm，Georg Simon 德国物理学家。1787年3月16日生于巴伐利亚的埃朗根，1854年7月6日卒于慕尼黑。1811年毕业于埃朗根大学并取得哲学博士学位。1817～1826年在科隆大学预科教授数学和物理学，后在柏林从事研究并任教，1833年任纽伦堡综合技术学校物理学教授。1849年任慕尼黑大学教授。 欧姆最重要的贡献是建立电路定律。他于1825年开始进行电导率方面的实验，用自制的细长金属丝测定出几种金属的相对电导率。用同样材料不同粗细的导线做实验得出：如果导线的长度和横截面成正比，则它们的电导值相同。他设计了显示电流大小的仪器，并采用铜-铋组成的温差电偶作稳定电源 ，来研究电流与电源的策动力及导线长度的关系，并于1826年首先总结出电流的大小X等于  ，x为导体长度，a和b是两个常量，a取决于电偶材料和温差的策动力，b取决于电偶对电流的阻力。又总结出关系式：X＝A／L，A为该导体上所有电张力的总和（即该导体两端电势差），L为其等效长度（相当于电阻）。这就是欧姆定律。1827年出版了他的著作《伽伐尼电路：数学研究》。 |
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参考词条