1) veiling glare index of lens
物镜杂光系数
2) Veiling glare index
杂光系数
1.
A new method is proposed for measuring the veiling glare index of long focal length optical systems based on the analysis of the properties and their application fields of present measurement devices and the theoretical analysis on the stray light sources is also given.
在分析现有杂光系数测量的基础上，提出了一种新的长焦距光学系统杂光系数测量的方法，并对这种方法进行了理论分
3) Veiling glare index(VGI)
杂光系数ＶＧＩ
4) lithography lens
光刻物镜
1.
The simplicity method of MTF test for submicron projection lithography lenses;
亚微米投影光刻物镜MTF的简便测定方法
2.
The design of 193nm projection lithography lens has been introduced.
介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜的研制,对结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑,提出投影光刻物镜结构设计和装配方法。
5) Low Light lens
微光物镜
6) C.D. Objective
光盘物镜
补充资料：物镜
光学仪器(如显微镜、望远镜等)中靠近被观察物体的透镜或透镜组。物体发出的光先经过物镜形成实像，再经目镜放大以便观察。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条